[发明专利]磺酰胺类抑制剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.具有通式(I)结构的磺酰胺类化合物、其立体异构体、互变异构体、晶型、药学上可接受的盐、水合物、溶剂合物或前药：

式中：

X选自取代或未取代的下组基团：C₂-C₆亚烷基、C₃-C₁₀亚环烷基、4-10元亚杂环基、C₁-C₆亚烷基C₃-C₁₀亚环烷基或C₁-C₆亚烷基4-10元亚杂环基，其中，所述取代是指被一个或多个Ra取代；

Y选自：NH或NR⁴，其中，R⁴选自取代或未取代的下组基团：C₁-C₆烷基、C₃-C₆环烷基或4-6元杂环基；其中，所述取代是指被一个或多个Ra取代；

Z选自：O、NH、NCN、NR⁹，其中，R⁹选自取代或未取代的下组基团：C₁-C₆烷基、C₃-C₈环烷基、4-10元杂环基、C₆-C₁₄芳基或5-14元杂芳基；其中，所述取代是指被一个或多个Ra取代；

U选自：N或CR¹⁰，其中，R¹⁰选自：H、D或卤素；

R¹选自取代或未取代的下组基团：NH₂、NR¹¹R¹¹'、C₁-C₆烷基、C₃-C₁₀环烷基、4-10元杂环基、C₆-C₁₄芳基或5-14元杂芳基，其中，所述取代是指被一个或多个Ra取代；

R¹¹和R¹¹'各自独立地选自取代或未取代的下组基团：H、C₁-C₆烷基、C₃-C₁₀环烷基、4-10元杂环基、C₆-C₁₄芳基或5-14元杂芳基，且R¹¹和R¹¹'不同时为H，其中，所述取代是指被一个或多个Ra取代；

R²选自取代或未取代的下组基团：氢、氘、卤素、氰基、C₁-C₆烷基、C₃-C₆环烷基；

R³选自取代或未取代的下组基团：C₆-C₁₄芳基、5-14元杂芳基，其中，所述取代是指被一个或多个Ra取代；

R⁵、R⁶和R⁸各自独立地选自取代或未取代的下组基团：氢、氘、卤素、C₁-C₆烷基、C₃-C₆环烷基、4-6元杂环基、氰基、酯基、胺基、酰胺基、磺酰胺基或脲基；其中，所述取代是指被一个或多个Ra取代；

R⁷选自取代或未取代的下组基团：氢、氘、卤素、CF₃、CHF₂、OCF₃、OCHF₂、C₁-C₆烷基、C₃-C₈环烷基、4-10元杂环基、C₆-C₁₄芳基、5-14元杂芳基、氰基、酯基、胺基、酰胺基、磺酰胺基或脲基；其中，所述取代是指被一个或多个Ra取代；

Ra选自取代或未取代的下组基团：氢、氘、C₁-C₁₈烷基、氘代C₁-C₁₈烷基、卤代C₁-C₁₈烷基、卤代C₁-C₁₈烷基羟基、C₃-C₂₀环烷基、C₁-C₁₈烷氧基、氘代C₁-C₁₈烷氧基、卤代C₁-C₁₈烷氧基、C₆-C₁₄芳基、5-14元杂芳基、4-20元杂环基、卤素、硝基、羟基、氰基、酯基、胺基、酰胺基、磺酰胺基或脲基，其中，Ra中所述取代是指被一个或多个选自下组的基团取代：氘、C₁-C₆烷基、C₃-C₆环烷基、4-6元杂环基、卤素、硝基、羟基、氰基、酯基、胺基、酰胺基、磺酰胺基或脲基。