[发明专利]样品处理装置的局部真空保持装置

权利要求书

1.一种样品处理装置的局部真空保持装置，其为利用带电粒子在大气压下加工或者观察样品的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，包括：

样品放置台，设置有样品，用于在大气压下加工或者观察所述样品；

柱部，释放用于加工或者观察设置在所述样品放置台上的样品的带电粒子；

柱壳体，在内部容纳有所述柱部并包括孔隙，所述孔隙设置在将从柱部释放的带电粒子向样品照射的路径上；

局部真空保持部，在所述孔隙的外围部吸入样品部位的气体以将放置有所述样品的一定区域与外部进行局部性的阻隔；

局部真空强化部，设置在所述局部真空保持部的外围部，用于防止外部的气体流入到放置有样品的一定区域内。

2.根据权利要求1所述的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，所述局部真空保持部包括：吸入部，在所述柱壳体围绕所述孔隙的外围的一部分或者全部；以及真空泵，与所述吸入部连通。

3.根据权利要求2所述的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，所述局部真空保持部的吸入部以所述样品为中心以倾斜的形态形成在所述柱壳体。

4.根据权利要求1所述的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，所述局部真空强化部包括：排放部，围绕所述局部真空保持部的外围的一部分或者全部；以及气体供应部，用于通过所述排放部供应惰性气体。

5.根据权利要求4所述的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，通过所述排放部排放的惰性气体的压力大于等于从所述局部真空保持部吸入的压力。

6.根据权利要求4所述的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，所述排放部以倾斜的形态形成在所述柱壳体用于朝远离样品的方向排放惰性气体。

7.根据权利要求4所述的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，通过所述排放部供应的惰性气体为氦气。

8.根据权利要求4所述的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，所述排放部形成为使向所述局部真空保持部的外围排放的气体以螺旋形式排放。

9.根据权利要求1所述的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，

所述局部真空保持部包括在所述柱壳体围绕所述孔隙的外围的一部分或者全部的吸入部，所述局部真空强化部包括形成为围绕所述吸入部的外围的一部分或者全部的排放部，

所述样品处理装置的局部真空保持装置设置为从所述孔隙到吸入部的距离小于从吸入部到排放部的距离。

10.根据权利要求1所述的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，形成为以所述样品放置台为基准，所述局部真空保持部和局部真空强化部之间部分的高度小于所述局部真空强化部外围部的高度。

11.根据权利要求1所述的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，在所述局部真空保持部和局部真空强化部之间的柱壳体还包括朝所述样品放置台侧形成的隔板。

12.根据权利要求11所述的样品处理装置的局部真空保持装置，其特征在于，所述隔板由具有弹性的材质构成。