[发明专利]一种低价态氧化锆光学镀膜材料及制备方法在审
申请号: | 202011581323.6 | 申请日: | 2020-12-28 |
公开(公告)号: | CN112552045A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 卢鹏荐;张威 | 申请(专利权)人: | 海宁拓材科技股份有限公司 |
主分类号: | C04B35/48 | 分类号: | C04B35/48;C04B35/622;C04B35/626 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 张仁杰 |
地址: | 314400 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低价 氧化锆 光学 镀膜 材料 制备 方法 | ||
本发明公开了一种低价态氧化锆光学镀膜材料及制备方法,具体涉及光学材料技术领域,包括以下材料,质量份为25‑30的丙烯酸、质量份为5‑8的甲基丙烯酸、质量份为10‑15的纳米二氧化钛、质量份为35‑43的氨水溶液、质量份为5‑8的丙烯酸乙酯、质量份为5‑10的烯烃衍生物、质量份为5‑8的偶氮二异丁氰、质量份为3‑5的十二烷基苯磺酸、质量份为5‑10的乙醇、质量份为5‑12的纳米银、质量份为15‑20的双氧水、质量份为30‑40的异丙醇。本发明很好的解决了现有光学镀膜材料在使用时出现斑点及强度不足易产生划痕的问题,并且纳米银具有较强的消毒杀菌作用,从而可以赋予光学器件良好的抗菌效果,而且本发明更为显著的优点是具有一定的防雾效果,而且可以起到自动清洁的效果。
技术领域
本发明涉及光学材料技术领域,更具体地说,本发明涉及一种低价态氧化锆光学镀膜材料及制备方法。
背景技术
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层或多层金属或介质薄膜的工艺过程,可以达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光和偏振等要求,而对光学零件进行光学镀膜的过程中,往往需要使用到光学镀膜材料。
现有技术中,用于制备光学镀膜的材料通常采用氧化钛,氧化钛是一种高折射率的光学镀膜材料,应用范围十分广泛,但是,氧化钛在镀膜过程中,会释放氧气,使真空度波动较大,膜层易形成斑点,另一方面氧化钛强度相对较低,镀制膜层在使用的过程中易形成划痕,并且容易受到温差作用引起雾化,需要多次使用除雾剂才能消除,操作不仅繁琐、浪费时间和资源,而且成本高,而且不具有除菌和自清洁功能,有鉴于此,开发一种具有防雾防菌的低价态氧化锆光学镀膜材料,是本领域亟待解决的一项技术问题。
发明内容
为了克服现有技术的上述缺陷,本发明提供了一种低价态氧化锆光学镀膜材料及制备方法,本发明所要解决的技术问题是:现有技术中的光学镀膜材料在制膜过程中容易形成斑点和划痕,并且容易受到温差作用引起雾化,而且不具有除菌和自清洁功能的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种低价态氧化锆光学镀膜材料,包括以下材料:
质量份为25-30的丙烯酸、质量份为5-8的甲基丙烯酸、质量份为10-15的纳米二氧化钛、质量份为35-43的氨水溶液、质量份为5-8的丙烯酸乙酯、质量份为5-10的烯烃衍生物、质量份为5-8的偶氮二异丁氰、质量份为3-5的十二烷基苯磺酸、质量份为5-10的乙醇、质量份为5-12的纳米银、质量份为15-20的双氧水、质量份为30-40的异丙醇、质量份为3-5的浓度为28%的氨水、质量份为1-2的正硅酸乙酯、摩尔比为30-45的二氧化锆、摩尔比为25-30的金属锆粉、质量份为25-30的五氧化二铌粉末、质量份为20-25的去离子水。
一种低价态氧化锆光学镀膜材料的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:
S1、称取预定质量份的丙烯酸、预定质量份的甲基丙烯酸和预定质量份的纳米二氧化钛放入混合设备中,进行均匀的混合,混合10-20min后加入预定质量份的氨水溶液,氨水溶液的温度控制在6-20℃,再次混合10-20min后加入预定质量份的丙烯酸乙酯、预定质量份的烯烃衍生物、预定质量份的偶氮二异丁氰和预定质量份的十二烷基苯磺酸,在氮气保护下充分搅拌20min-30min,搅拌温度控制在65℃-70℃,再加入预定质量份的乙醇和预定质量份的纳米银,并搅拌35min-45min,得到混合溶液,再将得到的溶液转移至冷水浴中进行冷却,然后加入预定质量份的双氧水,得到溶液A;
S2、称取预定质量份的异丙醇、预定质量份的浓度为28%的氨水和预定质量份的正硅酸乙酯在室温下搅拌24h,所得产物经离心、洗涤后,在550℃下煅烧2h,即获得二氧化硅中空载银微球,即为溶液B,然后将溶液A与溶液B进行均匀的混合,得到溶液C;
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