[发明专利]降低高硅变形铝合金铸锭偏析厚度的方法有效

专利信息
申请号: 202011582780.7 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN112808977B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 宋肖滨;姜升田;王少鹏;吕庆玉;张人杰;刘晓琳;遇鹏道;王盼辉 申请(专利权)人: 龙口市丛林铝材有限公司;丛林铝业科技(山东)有限责任公司
主分类号: B22D21/04 分类号: B22D21/04;B22D46/00;C22C1/03;C22C1/06;C22C21/00;C22F1/04
代理公司: 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 代理人: 董宝锞
地址: 265700 *** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 降低 变形 铝合金 铸锭 偏析 厚度 方法
【权利要求书】:

1.一种降低高硅变形铝合金铸锭偏析厚度的方法,其特征在于:包括以下步骤:

步骤一、准备原料:将废料、铝锭、镁锭、Al-Si中间合金、Al-Fe中间合金、Al-Cu中间合金、Al-Mn中间合金、Al-Cr中间合金、Al-Ti中间合金原料,按照重量百分比,称取一定的重量;

步骤二、装炉:原料称好后部分先装入熔炼炉,炉膛的温度为600℃-650℃,先装入废料,根据废料形态,先装入小块或薄片废料,其次再加入棒头等大块废料,再装入Al-Si中间合金、Al-Fe中间合金、Al-Cu中间合金、Al-Mn中间合金、Al-Cr中间合金,最后装入铝锭;

步骤三、熔化:熔炼炉点火进行熔化,熔炼炉炉膛温度为1100℃-1150℃,当炉膛内的原料熔化1/3时,开启永磁搅拌器进行搅拌,搅拌时间为20-60min;

步骤四、加合金:当熔炼炉内铝液温度在745℃-750℃时,先加入Al-Ti中间合金进行搅拌,电磁搅拌时间5分钟,然后人工再加入镁锭,在镁锭投入处均匀撒入无钠覆盖剂将其彻底覆盖,待其完全熔化后,用铁耙轻轻均匀地推向各处液面,然后电磁搅拌10分钟,人工搅拌5分钟;

步骤五、取样设备检测:取样前先检测取样勺和试样模是否有残铝等异物,若是有,取样勺需用涂料涮涂,并将取样勺在炉子内预热至少2分钟,在铝液中涮净取样勺,确认勺内涮洗干净;

步骤六、取样:当熔炼炉内铝液温度在720℃-730℃时,熔炼工在炉内取三个试样,第一个试样作为预热试样,倒入预热试样模内,对预热试样模预热,预热完将铝液直接倒出,然后第二个试样在炉膛的中心附近位置进行取样,第三个试样在距离炉膛内壁大于50厘米处进行取样,第二个试样和第三个试样的取样位置为炉膛高度的一半处,取样勺从炉膛内取出铝液,迅速倒入预热的试样模内,最终试样结果要求应为无裂纹、无夹渣和气孔;

步骤七、转炉:步骤六中试样结果符合要求后,将铝液温度升温至740℃-750℃时转炉至精炼炉,转炉前,把流道残铝、残渣及杂物清理,流道破损的位置用修补料进行修补,然后均匀刷上涂料;

步骤八、精炼:在精炼炉中通过精炼管加入精炼剂,进行精炼并除气除渣作业,设定精炼时间15-20min,精炼剂喷射时间达到设定值时,拔出精炼管,关闭氩气阀开关;

步骤九、扒渣、静置:用工具扒出浮渣,熔体表面不能存在浮渣,并在熔体表面均匀撒入不少于6-10kg覆盖剂,全部覆盖炉内熔体表面,然后静置15-20min;

步骤十、铸造:铸造前精炼炉铝液温度设置范围为740℃-750℃,铸造前需要将流槽中铝液的液面高度设置范围为90mm-110mm,降低熔体静力,铸造速度设置范围为45mm/min-48mm/min,控制水量设置范围为3000-4000L/min,铸造过程中流槽温度设置为710℃-730℃,启动铸造程序,开始铸造,先在精炼炉,然后转入流槽,经过滤箱,最后到达铸造模具,铸造过程中精炼炉控制铝液温度在740℃-750℃,铸造过程中铸造模具内铝液的温度控制在715℃-725℃,铸造过程中铸造速度和控制水量设置后均无变化,转入流槽目的为了是控制液面高度和保证模具内铝液温度;

步骤十一、均匀化退火:铸造结束后,将铸锭转入均热炉,当炉气温度为160℃时装炉,经过230min升温至540℃,保温时间560-600min,然后再转入冷却室,强风压0.01-0.02MPa,冷却70min,水压为0.05-0.1MPa,冷却80min至室温后出冷却室;

步骤十二、测量偏析层厚度:①锯切铸锭试片,试片厚度为15mm,在试片边部任意位置,取大小为25mm长*25mm宽*15mm高的试样;②取样后研磨,研磨结果需保证试样研磨面为平面,磨痕为最后一道砂纸留下的痕迹,研磨后抛光,抛光至试样研磨痕迹消失,表面光滑;③抛光后腐蚀,腐蚀液配比要求为HCI:HF:H2O=40ml:80ml:880ml,腐蚀要注意腐蚀时间,腐蚀结果需保证使用金相显微镜能够清楚观察到试样的显微组织,时间为20-30min;④金相观察:显微镜倍数100倍,边部偏析层跟正常组织颜色不同,偏析层腐蚀后颜色发暗,晶粒组织大小不均匀,正常组织腐蚀后颜色较明亮,呈现正常的晶粒组织,大小均匀,对试样偏析层厚度进行判定,偏析层厚度范围为350um-450um,判定合格。

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