[发明专利]一种等离子体处理装置气体供应系统在审
| 申请号： | 202011586160.0 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN114688457A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 马冬叶;连增迪;陈煌琳 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | F17D1/04 | 分类号： | F17D1/04;F17D1/20;F17D3/01;F16L53/30;F16L55/04;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 装置 气体 供应 系统 | ||
1.一种等离子体装置处理气体供应系统，用于将处理气体分配至多个反应腔，其特征在于，包括：
歧管，用于输送所述处理气体；
控制箱，位于所述歧管的支路上，用于调节所述处理气体的流量；
调节箱，位于所述歧管的干路上，通过所述调节箱中的处理气体的物态变化改变所述歧管的干路中的气压。
2.如权利要求1所述的供应系统，其特征在于，所述物态变化为液态与气态之间的变化。
3.如权利要求2所述的供应系统，其特征在于，所述调节箱包括储液盒、气体管路和液体管路，所述气体管路和液体管路的一端与所述歧管的干路连接，另一端与所述储液盒内部相连，所述气体管路上设置有气体阀，所述液体管路上设置有液体阀。
4.如权利要求3所述的供应系统，其特征在于，所述气体供应管路内径大于所述液体管路内径。
5.如权利要求4所述的供应系统，其特征在于，所述气体管路的管外设置有第一加热器，所述液体管路的管外设置有冷却器。
6.如权利要求1所述的供应系统，其特征在于，所述调节箱包括温度控制装置。
7.如权利要求1所述的供应系统，其特征在于，所述干路的内径大于等于所述支路内径的2倍。
8.如权利要求7所述的供应系统，其特征在于，所述歧管为不锈钢材质。
9.如权利要求1所述的供应系统，其特征在于，所述歧管的管外设置有第二加热器。
10.如权利要求1所述的供应系统，其特征在于，所述歧管的干路上设置有存气罐。
11.如权利要求10所述的供应系统，其特征在于，所述存气罐数量为多个，且多个所述存气罐的容积沿着气体输送方向递减。
12.如权利要求10所述的供应系统，其特征在于，所述存气罐与所述歧管的干路并联。
13.如权利要求10所述的供应系统，其特征在于，所述存气罐与所述歧管的干路串联。
14.如权利要求10所述的供应系统，其特征在于，所述存气罐与所述歧管的干路焊接连接。
15.如权利要求10所述的供应系统，其特征在于，所述存气罐与所述歧管的干路可拆卸连接，且连接处设置有负压系统。
16.如权利要求1所述的供应系统，其特征在于，所述歧管的干路上设置有单向阀。
17.如权利要求1所述的供应系统，其特征在于，所述控制箱包括压力表和质量流量控制器。
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