[发明专利]数据处理方法、系统、存储介质及3D打印设备、控制方法有效

专利信息
申请号: 202011586717.0 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN112810140B 公开(公告)日: 2023-03-10
发明(设计)人: 高海潮;陈先飞;马劲松;于清晓 申请(专利权)人: 上海联泰科技股份有限公司
主分类号: B29C64/20 分类号: B29C64/20;B29C64/386;B29C64/393;B33Y30/00;B33Y50/00;B33Y50/02
代理公司: 上海德理达知识产权代理事务所(普通合伙) 31505 代理人: 王再朝
地址: 201612 上海市松江区莘砖公*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 数据处理 方法 系统 存储 介质 打印 设备 控制
【权利要求书】:

1.一种用于3D打印的数据处理方法,其特征在于,包括:

根据预设的对应各成型面的打印约束,在由多个成型面所拼成的整体成型面对应的整体虚拟成型面内,确定至少一个三维数据模型的位置和姿态;其中,所述打印约束是根据包含多个能量辐射系统的3D打印设备的打印过程而设置的;每个能量辐射系统对应一个所述成型面;所述打印约束包括所述整体虚拟成型面中的位置优先级,所述位置优先级是以预设的一个虚拟成型面中的中心位置为整体虚拟成型面的位置优先级最高的虚拟基准位置、单一成型面内的打印位置优先级的约束、以及基于整体虚拟成型面中其他位置与预设的刮刀系统中刮刀的初始位置的距离远近而确定的;

基于所有确定了位置和姿态的各三维数据模型,生成供所述3D打印设备处理的打印文件;

其中,在确定至少一个三维数据模型的位置和姿态之前,所述数据处理方法还包括:从包含约束选项的界面中,获取所选择的约束选项所对应的布置参数;其中,所述界面中显示的约束选项包括用于输入布置参数的输入框,和用于选择布置参数的选择项;

其中,若经批量导入的三维数据模型的数量多于在所述3D打印设备一次批量制造所对应的各虚拟成型面内所能放置的三维数据模型的数量,所述数据处理方法还包括:将剩余的各三维数据模型的位置设置在各虚拟成型面所构成的整体虚拟成型面之外的区域,以便按照所述打印约束分批次确定所述剩余的各三维数据模型在各虚拟成型面中的位置和姿态;或者按照所述打印约束,在备份的至少一个整体虚拟成型面中的至少一个虚拟成型面内,确定剩余的各三维数据模型的位置和姿态。

2.根据权利要求1所述的用于3D打印的数据处理方法,其特征在于,所述打印约束包括以下至少一种:针对单一成型面内的打印位置优先级的约束,针对各成型面在3D打印设备的整体成型面内的打印位置优先级的约束,针对单一成型面的打印边界的约束,针对所制造的各三维物体的姿态和间距的约束。

3.根据权利要求1所述的用于3D打印的数据处理方法,其特征在于,所述布置参数用于配置到所述打印约束中,以确定位于其中至少一个虚拟成型面内的各所述三维数据模型的姿态,以确定相邻所述三维数据模型之间的间距,以及以确定各所述三维数据模型与各虚拟成型面之间的边界距离中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的用于3D打印的数据处理方法,其特征在于,所述根据预设的对应各成型面的打印约束,在至少一个成型面所对应的虚拟成型面内,确定至少一个三维数据模型的位置和姿态的步骤包括:

按照所述打印约束,以及所导入的多个三维数据模型的轮廓特征,在单个虚拟成型面内,配置相邻三维数据模型的姿态、和/或相邻三维数据模型之间的间距。

5.根据权利要求1所述的用于3D打印的数据处理方法,其特征在于,所述三维数据模型包括:U型的三维数据模型;所确定的各三维数据模型的姿态包括:开口方向一致,和/或开口方向相反。

6.根据权利要求1所述的用于3D打印的数据处理方法,其特征在于,所获取的多个所述三维数据模型被分布在不同虚拟成型面内;其中,该不同虚拟成型面内具有放置三维数据模型的剩余空间。

7.根据权利要求1所述的用于3D打印的数据处理方法,其特征在于,不同虚拟成型面中所放置的多个所述三维数据模型是在其中的部分虚拟成型面无放置三维数据模型的空间的基础上,从排满的虚拟成型面向其中空闲的剩余虚拟成型面延伸而被放置的。

8.根据权利要求1所述的用于3D打印的数据处理方法,其特征在于,所述基于所有确定了位置和姿态的各三维数据模型,生成供所述3D打印设备处理的打印文件的步骤包括:

对所有确定了位置和姿态的各三维数据模型进行切片处理,以得到各三维数据模型的切片层信息;

将各三维数据模型的切片层信息处理成打印文件。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海联泰科技股份有限公司,未经上海联泰科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011586717.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top