[发明专利]一种真空镀膜防雾镜片及其制备方法有效
申请号: | 202011591955.0 | 申请日: | 2020-12-29 |
公开(公告)号: | CN112649904B | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 刘锋;毛良良 | 申请(专利权)人: | 江苏淘镜有限公司 |
主分类号: | G02B1/18 | 分类号: | G02B1/18;G02B1/14;G02B1/115;C23C14/24;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/58;C23C14/26;C23C14/12 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 刘艳艳 |
地址: | 212331 江苏省镇*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 镜片 及其 制备 方法 | ||
1.一种真空镀膜防雾镜片,包括加硬树脂镜片,其特征在于,加硬树脂镜片前表面经过离子工艺处理活化表面后设置有光学镜片减反射膜组层,减反射膜组层前表面经过离子工艺处理活化表面后镀制有防雾层;
所述树脂镜片加硬层前表面,进行离子源轰击,离子工艺处理活化表面,得到表面更致密的膜层,即加硬活化层;
所述减反射膜组层采用从内往外依次为SiO2、ZrO2、SiO2、ZrO2、ITO、Al2O3、SiO2的组合膜层;所述减反射膜组层中,从内往外依次为厚度为110~125nm的SiO2、厚度为20~30nm的ZrO2、厚度为15~25nm的SiO2、厚度为40~50nm的ZrO2、厚度为6~10nm的ITO、厚度为5~10nm的Al2O3、厚度为45~70nm的SiO2;
所述减反射膜组层的前表面进行离子源轰击,离子工艺处理活化表面,最后采用电阻热辐射加热蒸镀镀制防雾层,防雾层厚度为10~100nm。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜防雾镜片,其特征在于,所述防雾层的材质为有机硅聚合物。
3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜防雾镜片,其特征在于,所述防雾层采用电阻热辐射加热蒸镀的方式进行镀制,得有机硅聚合物膜层,控制膜料加热进行镀膜,蒸发厚度根据性能要求在10~100nm。
4.根据权利要求1所述的真空镀膜防雾镜片,其特征在于,所述加硬树脂镜片为表面均布有加硬层的树脂镜片。
5.根据权利要求1或2所述的真空镀膜防雾镜片,其特征在于,所述加硬层是通过浸涂法对树脂镜片基体表面形成耐磨加硬层。
6.权利要求1-5任一项所述的真空镀膜防雾镜片的制备方法,其特征在于,包括:
步骤A、将加硬树脂镜片用超声波清洗干净,并在60℃烘干30min,取出,冷却;
步骤B、将步骤A得到的加硬树脂镜片放入真空镀膜腔内进行真空镀膜,真空镀膜工艺为:镀膜腔体温度设定在35-55℃,真空抽至1.0×10-3Pa~1.0×10-5Pa,用Ar进行离子束轰击镜片表面进行活化,采用电子枪依次蒸镀镀制SiO2、ZrO2、SiO2、ZrO2、ITO、Al2O3、SiO2,得到减反射膜组层;
步骤C、再用Ar进行离子束轰击2~10min,使减反射膜组层前表面进行活化处理;
步骤D、采用电阻热辐射加热蒸镀镀制防雾层,控制膜料加热进行镀膜,蒸发厚度根据性能要求在10~100nm。
7.根据权利要求6所述的真空镀膜防雾镜片的制备方法,其特征在于,电子枪功率10~50%,电阻热辐射功率为:10~15%,阳极电压90V~120V,阳极电流1A~3A,O2的流量为0sccm~30sccm,Ar的流量为0sccm~50sccm。
8.根据权利要求6所述的真空镀膜防雾镜片的制备方法,其特征在于,减反射膜组层各层由电子枪镀制的药品蒸发速率为:SiO2为0.3-3nm/s,ZrO2 为0.1-2nm/s, Al2O3为0.5nm/s,防雾层由电子枪镀制的药品蒸发速率为0.12nm/s 。
9.一种真空镀膜防雾镜片,其特征在于,由权利要求6-8任一项所述的真空镀膜防雾镜片的制备方法制备而成。
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