[发明专利]一种目镜光学系统及头戴显示装置在审
申请号: | 202011596394.3 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN112578550A | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 郭健飞;曹鸿鹏;彭华军 | 申请(专利权)人: | 深圳纳德光学有限公司 |
主分类号: | G02B25/00 | 分类号: | G02B25/00;G02B27/01 |
代理公司: | 深圳市多智汇新知识产权代理事务所(普通合伙) 44472 | 代理人: | 鲁华 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤海街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 目镜 光学系统 显示装置 | ||
1.一种目镜光学系统,其特征在于:包括至少一片菲涅耳透镜;所述菲涅耳透镜包含菲涅耳面;所述菲涅耳面上设有遮光部件;所述遮光部件包括透明基底、用于对所述菲涅耳面上的有效光学部分透光的透光位、以及用于对所述菲涅耳面上的非有效光学部分消光的消光件;所述消光件与所述透光位交替分布在所述透明基底表面;
所述消光件与所述透光位的频率设为f;所述消光件相对部件中心轴按频率f依次排列,且f满足下列关系式(1):
0.1<f<1000 (1);
其中,所述有效光学部分为参与高质量成像的光线经过的光学部分;所述非有效光学部分为杂散光线经过的光学部分。
2.根据权利要求1所述的目镜光学系统,其特征在于,所述消光件的带宽设为d1;所述透光位的带宽设为d2,则d1与d2满足下列关系式(3):
d1<d2 (3)。
3.根据权利要求1所述的目镜光学系统,其特征在于,所述透明基底的光学透射率均大于80%。
4.根据权利要求1所述的目镜光学系统,其特征在于,所述消光件的基底面与所述透光位的基底面均为平面,且所述消光件的基底面及所述透光位的基底面相互平行。
5.根据权利要求1所述的目镜光学系统,其特征在于,所述透光位的基底面与所述消光件的基底面均为曲面,且所述透光位的曲率与所述消光件的曲率相同。
6.根据权利要求1所述的目镜光学系统,其特征在于,所述消光件的基底面中心及所述透光位的基底面中心处于同一轴线上。
7.根据权利要求1所述的目镜光学系统,其特征在于,所述菲涅耳面上设有透光部位;所述透光位的位置与所述透光部位的位置相对应;所述透光部位包括位于所述菲涅耳面上的菲涅耳齿面。
8.根据权利要求1所述的目镜光学系统,其特征在于,所述菲涅耳面上设有消光部位;所述消光件设置在所述消光部位上;所述消光部位包括但不限于所述菲涅耳面的齿尖、齿根以及菲涅耳拔模面。
9.根据权利要求1所述的目镜光学系统,其特征在于,所述消光件以及所述透光位的基底材质为光学玻璃或光学树脂。
10.一种头戴显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-9中任一项所述目镜光学系统。
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