[发明专利]一种聚芳酯改性液晶高分子薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种聚芳酯改性液晶高分子薄膜，其特征在于：所述的聚芳酯改性的液晶高分子薄膜介电常数≤3.2(10GHz)，逸散因子为≤0.004(10GHz)；热膨胀系数为16-21ppm/K,吸水率小于0.05％；力学性能为TD抗拉强度为90-170MPa，TD断裂伸长率≥20％，MD抗拉强度为140-200MPa，MD断裂伸长率≥18％。

2.根据权利要1所述的聚芳酯改性液晶高分子薄膜，其特征在于：所述的聚芳酯改性液晶高分子薄膜由改性液晶高分子树脂制成。

3.根据权利要求2述的聚芳酯改性液晶高分子薄膜，其特征在于：所述聚芳酯改性液晶高分子树酯的熔体粘度在为750-3000Pas。

4.根据权利要求2所述的聚芳酯改性液晶高分子薄膜，其特征在于：所述改性液晶高分子树酯包含液晶高分子树脂、聚芳酯树脂和抗氧剂。

5.根据权利要求4所述的聚芳酯改性液晶高分子薄膜，其特征在于：所述聚芳酯是一种无定型的聚酯材料，其与液晶高分子树脂具有部分相容性，同时其也具有低的介电常数(2.8，1GHz)，低的介电损耗(0.007，1GHz)和高的耐热性(T_g＝193℃)。

6.根据权利要求4所述的聚芳酯改性液晶高分子薄膜，其特征在于：所述液晶高分子树脂选自熔点大于或等于280℃的膜级树脂。

7.根据权利要求6所述的聚芳酯改性液晶高分子薄膜，其特征在于：所用聚芳酯树脂为双酚A、对二甲酸、间苯二甲酸中、对羟基苯甲酸中的两种或两种以上单体共聚而成的聚合物。

8.根据权利要求4所述的聚芳酯改性液晶高分子薄膜，其特征在于：抗氧剂选自抗氧剂246、抗氧剂168、抗氧剂1010、抗氧剂1790中的一种或两种复配使用。

9.一种聚芳酯改性液晶高分子薄膜的制备方法，其特征在于：将干燥后的各组分按一定配比在双螺杆挤出机内熔融、混炼、挤出造粒，得到改性液晶高分子树酯；然后再将改性料加入到单螺杆挤出机中，经T型模头挤出-流延-双拉或环型模头挤出-吹塑成膜法制得到；再经热处理后得到液晶高分子薄膜。

10.根据权利要求9所示的制备方法，其特征在于，可以用来制备厚度为25-100μm的液晶高分子高分子薄膜。