[发明专利]一种高致密涂层的复合制备方法

权利要求书

1.一种高致密涂层的复合制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1，将基底放置于反应室内，并将反应室抽真空；

步骤2，利用加热装置对基底加热并保持；

步骤3，利用原子层沉积技术在基底上制备一层所需的涂层；

步骤4，利用化学气相沉积技术制备一层同种材料的涂层；

步骤5，重复上述步骤3～步骤4，直到涂层的厚度满足要求为止。

2.如权利要求1所述的复合制备方法，其特征在于，所述步骤1中，将反应室的真空度抽至1×10^-3Pa～5×10^-3Pa。

3.如权利要求1所述的复合制备方法，其特征在于，所述步骤2中的加热温度为400～900℃，依据所制备材料选取。

4.如权利要求1所述的复合制备方法，其特征在于，所述步骤3中，采用原子层沉积技术制备的涂层的厚度为0.05～0.1μm。

5.如权利要求1所述的复合制备方法，其特征在于，所述步骤4中，采用化学气相沉积技术制备的涂层的厚度为2～2.5μm。