[发明专利]一种石墨烯复合膜及其制备方法与应用在审
| 申请号： | 202011603189.5 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112694085A | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 刘科海;张超;陈益;王恩哥 | 申请（专利权）人： | 松山湖材料实验室 |
| 主分类号： | C01B32/194 | 分类号： | C01B32/194;C01B32/184;C01B32/186;H04R7/10;H04R31/00;C02F1/44 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 覃蛟 |
| 地址： | 523000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 复合 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种石墨烯复合膜，其特征在于，由还原氧化石墨烯膜及设置于所述还原氧化石墨烯膜至少一侧表面的石墨烯膜复合而得。
2.根据权利要求1所述的石墨烯复合膜，其特征在于，所述石墨烯膜由至少一层石墨烯层构成，每层石墨烯层的厚度为0.3-0.5nm。
3.根据权利要求1或2所述的石墨烯复合膜，其特征在于，所述还原氧化石墨烯膜的厚度为10-1000nm；
优选地，所述还原氧化石墨烯膜的直径为1-100cm。
4.如权利要求1-3任一项所述的石墨烯复合膜的制备方法，其特征在于，于所述还原氧化石墨烯膜的至少一侧表面设置所述石墨烯膜；
优选地，于所述还原氧化石墨烯膜的至少一侧表面放置所述石墨烯膜，随后加热以使所述还原氧化石墨烯膜和所述石墨烯膜结合；
优选地，所述石墨烯膜经以下方式制得：采用气相沉积方式在预设基底的表面沉积石墨烯层；
优选地，气相沉积过程中所用的气体包括由甲烷和惰性气体组成的混合气体以及氢气，所述甲烷在所述混合气体中的含量为180-220ppm，所述混合气体的流量为1.8-2.2sccm，所述氢气的流量为18-22sccm；
优选地，气相沉积的时间为3.5-4.5h；
优选地，在沉积所述石墨烯层前，还包括对所述预设基底进行退火处理；
优选地，退火处理是于惰性气体流量为450-550sccm以及氢气流量为80-120sccm的条件下加热至900-1100℃；
优选地，所述还原氧化石墨烯经以下方式制得：将氧化石墨烯的分散液旋涂后通过还原剂还原；
优选地，所述分散液中所述氧化石墨烯的浓度为1-10wt‰；
优选地，旋涂转速为500-3000r/min；
优选地，所述还原剂包括氢碘酸、水合肼及柠檬酸钠中的至少一种。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述还原氧化石墨烯膜和所述石墨烯膜结合后，还包括去除所述预设基底；
优选地，通过刻蚀液将所述预设基底去除，所述刻蚀液包括过硫酸铵或三氯化铁。
6.如权利要求1-3任一项所述的石墨烯复合膜的应用，其特征在于，所述石墨烯复合膜用于声学振膜或电池或净水隔膜或NEM机电系统中。
7.一种声学振膜，其特征在于，包括如权利要求1-3任一项所述的石墨烯复合膜。
8.一种电池，其特征在于，包括如权利要求1-3任一项所述的石墨烯复合膜。
9.一种净水隔膜，其特征在于，包括如权利要求1-3任一项所述的石墨烯复合膜。
10.一种NEM机电系统，其特征在于，包括如权利要求1-3任一项所述的石墨烯复合膜。
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