[发明专利]一种阳极氧化和磷酸扩孔交替进行制备锥形AAO的方法在审

专利信息
申请号: 202011604972.3 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112813476A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 郑辉;胡东平;张阳;郑鹏;郑梁 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: C25D11/04 分类号: C25D11/04;C25D11/16;C25D11/24
代理公司: 北京盛询知识产权代理有限公司 11901 代理人: 陈巍
地址: 310018 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阳极 氧化 磷酸 扩孔 交替 进行 制备 锥形 aao 方法
【权利要求书】:

1.一种阳极氧化和磷酸扩孔交替进行制备锥形AAO的方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)对高纯铝片进行预处理;

(2)将预处理后的高纯铝片在氮气环境下退火,封装;

(3)以封装好的铝片作为阳极,以碳棒作为阴极,在常温下进行电化学抛光;

(4)以步骤(3)抛光后的铝片作为阳极,以石墨棒作为阴极,进行一次阳极氧化;

(5)去除步骤(4)一次阳极氧化形成的多孔氧化铝层;

(6)将步骤(5)得到的产物交替进行阳极氧化和磷酸扩孔,形成附着在铝片上的锥形结构的AAO;

(7)将步骤(6)得到的产物置于被丙酮溶解的聚甲基丙烯酸甲酯溶液中;

(8)将步骤(7)得到的产物去除铝基,得到锥形AAO/PMMA复合模板,再用丙酮溶液溶解PMMA得到锥形AAO模板。

2.根据权利要求1所述的一种阳极氧化和磷酸扩孔交替进行制备锥形AAO的方法,其特征在于,步骤(1)所述预处理为将高纯铝片裁剪成2cm×2cm的方块,然后将其压平,先放在无水乙醇中超声清洗,然后用丙酮超声清洗。

3.根据权利要求1所述的一种阳极氧化和磷酸扩孔交替进行制备锥形AAO的方法,其特征在于,步骤(2)在氮气气氛下500-600℃退火2-3h。

4.根据权利要求1所述的一种阳极氧化和磷酸扩孔交替进行制备锥形AAO的方法,其特征在于,步骤(2)中封装暴露在电解液中用于阳极氧化的面积为半径0.75cm的圆。

5.根据权利要求1所述的一种阳极氧化和磷酸扩孔交替进行制备锥形AAO的方法,其特征在于,步骤(3)中抛光液为高氯酸和无水乙醇的混合物,高氯酸和无水乙醇的体积比为1:4,抛光电压为20-25v,抛光时间为2-5min。

6.根据权利要求1所述的一种阳极氧化和磷酸扩孔交替进行制备锥形AAO的方法,其特征在于,步骤(4)中一次阳极氧化的电解液为0.15wt%的磷酸和0.3M的草酸混合溶液,一次阳极氧化的温度为1-3℃,氧化电压为195V,氧化时间为2-2.5h。

7.根据权利要求1所述的一种阳极氧化和磷酸扩孔交替进行制备锥形AAO的方法,其特征在于,步骤(5)中利用6.0wt%的磷酸和1.8wt%的铬酸混合溶液在60℃的温度下去除一次阳极氧化形成的多孔氧化铝层,浸泡时间2h,然后用去离子水超声清洗2min。

8.根据权利要求1所述的一种阳极氧化和磷酸扩孔交替进行制备锥形AAO的方法,其特征在于,步骤(6)中将步骤(5)得到的产物交替进行阳极氧化和磷酸扩孔具体包括以下步骤:

将步骤(5)的产物进行第一次阳极氧化1-4min,得到第一次阳极氧化产物;

将所述第一次阳极氧化产物在5wt%的磷酸溶液中第一次扩孔75min,得到第一次扩孔产物;

将所述第一次扩孔产物第二次阳极氧化2-4min,得到第二次阳极氧化产物;

将所述第二次阳极氧化产物在5wt%的磷酸溶液中第二次扩孔75min,得到第二次扩孔产物;

将所述第二次扩孔产物第三次阳极氧化2-4min,得到第三次阳极氧化产物;

将所述第三次阳极氧化产物在5wt%的磷酸溶液中第三次扩孔75min,得到第三次扩孔产物;

将所述第三次扩孔产物第四次阳极氧化2-4min,得到第四次阳极氧化产物;

将所述第四次阳极氧化产物在5wt%的磷酸溶液中第四次扩孔75min,得到第四次扩孔产物;

将所述第四次扩孔产物第五次阳极氧化2-4min,得到锥形结构的AAO。

9.根据权利要求1所述的一种阳极氧化和磷酸扩孔交替进行制备锥形AAO的方法,其特征在于,在步骤(7)中,以超声辅助填充30min,使PMMA填充到AAO模板的孔道中,填充完成后将产物放入烘箱中烘烤2h。

10.根据权利要求1所述的一种阳极氧化和磷酸扩孔交替进行制备锥形AAO的方法,其特征在于,在步骤(8)中,产物置于氯化铜溶液中去除铝基,得到锥形AAO/PMMA复合模板,将复合模板用去离子水中清洗后自然风干后,再用丙酮溶液溶解PMMA得到锥形AAO模板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011604972.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top