[发明专利]光微影设备

说明书

本揭示案揭示了一种光微影设备，包括可选择性地自处理设备延伸的粒子移除匣。粒子移除匣包括风力叶片狭缝及排气狭缝。风力叶片狭缝用以将经加压清洗材料指引至光罩的表面，以自光罩的表面移除碎屑粒子。排气狭缝经由排气线路收集与光罩的表面分开的碎屑粒子及污染物。在一些实施例中，风力叶片狭缝包括在风力叶片狭缝内间隔开的阵列的风力叶片喷嘴。在一些实施例中，排气狭缝包括在排气狭缝内间隔开的阵列的排气线路。

技术领域

本揭示案是关于一种光微影设备。

背景技术

由于碎屑粒子会遮蔽光罩图案的数个部分而减小光微影操作的产率。因此在光罩于微影制程期间穿过的位置及路线中，诸如工具夹持器、腔室、光罩固持器等，维持清洁的环境是必要的。详言之，生产高品质微电子装置及减小产率损失的能力取决于将关键组件的表面维持为实质上无缺陷、无污染物，例如，维持超清洁表面，从而确保污染物不会沉积于晶圆、掩模或光罩或其他关键组件的表面上。此为尤其重要的，因为较精细特征在微电子装置上为需要的。污染物的类型取决于环境及真空条件可为任何任意组合。污染物可自操作引入，诸如在光罩制作过程中的蚀刻副产物、有机烃污染物、任何种类的掉落灰尘、自钢脱气，等等。

光微影装备是使用吸尘器及异丙醇/乙醇擦拭器(wipe-down)来清洗，且粒子计数器用于监视及核实清洁度。然而，此手动清洗对于真空腔室而言可能并非较佳的。此外，精致或小组件的擦拭器及/或吸尘器清洗并非合乎需要的。另外，这些程序对于光罩将穿过或可能受污染的位置及路线而言并非特定的。因此，维持光罩的清洁度的替代方法为合乎需要的。

发明内容

本揭示案的另一实施例为一种光微影设备，包括：一光罩；一粒子移除匣；一腔室，其封闭光罩及粒子移除匣；及一控制器，其与粒子移除匣连接。粒子移除匣可选择性地自腔室延伸。粒子移除匣包括一吹风装置、一排气装置，及一支撑装置。

附图说明

当结合随附诸图阅读时，本揭示案自以下详细描述最佳地理解。强调，根据行业中的标准常规，各种特征并未按比例绘制且仅用于说明目的。实务上，各种特征的尺寸可任意地增大或减小，以用于论述的清晰性。

图1为根据一些实施例的半导体晶圆处理系统的示意视图；

图2A、图2B、图2C、图2D及图2E为根据本揭示案的实施例的半导体晶圆制程的示意图；

图3为用于移除碎屑粒子的实施例；

图4A及图4B为根据本揭示案的实施例的粒子移除组件的详细视图；

图5A及图5B为根据本揭示案的实施例的可选择性地自光微影设备延伸的粒子移除匣的详细视图；

图6A及图6B为根据本揭示案的一阵列的粒子移除喷嘴的详细视图；

图7为根据本揭示案的实施例的用于粒子移除及检验的系统的详细视图；

图8为根据本揭示案的另一实施例的粒子移除组件的详细视图；

图9A、图9B、图9C、图9D、图9E、图9F、图9G及图9H为根据本揭示案的实施例的清洗用于光微影设备的光罩的方法。

【符号说明】

1:半导体晶圆处理系统

5:半导体晶圆

10:处理设备

11:光源

12:照明器

13:光罩台

14:光罩

15:投影光学模块

16:基板台

17:晶圆传送部件