[发明专利]一种液晶显示面板及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202011606295.9 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112666764A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 谢菲菲;刘梦阳 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1345 分类号: G02F1/1345;G02F1/1339;G02F1/1333
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 液晶显示 面板 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种液晶显示面板,其特征在于,包括:

显示区和围绕所述显示区的非显示区,所述非显示区中具有第一区域;

阵列基板;

彩膜基板,所述彩膜基板与所述阵列基板相对设置,所述彩膜基板朝向所述阵列基板的一面具有第一走线层,所述第一走线层从所述显示区延伸至所述非显示区,且在对应所述第一区域的位置,所述第一走线形成至少一个缺口。

2.根据权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于,还包括:

框胶,设置在所述阵列基板和所述彩膜基板之间,分布在所述第一区域,且填充于所述缺口中。

3.根据权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于,所述阵列基板朝向所述彩膜基板的一面具有第二走线层,所述第二走线层从所述显示区延伸至所述非显示区。

4.根据权利要求3所述的液晶显示面板,其特征在于,所述阵列基板包括:

第一基板;

第一金属层,设于所述第一基板上;

栅极绝缘层,设于所述第一基板上且覆盖所述第一金属层;

钝化层,设于所述栅极绝缘层上;

第二金属层,嵌设于所述钝化层的上表面一侧内部,并位于所述第一区域;

所述钝化层设有延伸至所述第一金属层表面的第一凹槽和所述第二金属层表面的第二凹槽;

所述第二走线层设于所述钝化层上且延伸至所述第一凹槽和所述第二凹槽的表面与所述第一金属层和所述第二金属层连接。

5.根据权利要求4所述的液晶显示面板,其特征在于,

所述第二金属层设于所述栅极绝缘层的上表面;

在所述第二金属层的上方,所述钝化层形成有至少两个凸起,所述第二凹槽位于两个相邻的凸起之间。

6.一种权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,包括步骤:

制作一阵列基板;

制作一彩膜基板,所述彩膜基板中设有第一走线层;所述第一走线层从所述显示区延伸至所述非显示区,且在对应所述第一区域的位置,所述第一走线形成有缺口;以及

将所述彩膜基板与所述阵列基板相对设置,在所述非显示区内设置框胶连接所述彩膜基板和所述阵列基板,所述框胶分布在所述第一区域且填充于所述缺口中。

7.根据权利要求6所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,在制作所述彩膜基板步骤中,通过采用的掩膜板在所述第一区域的对应所述框胶的位置形成所述缺口。

8.根据权利要求6所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,所述制作阵列基板步骤包括:

在一第一基板上制作第一金属层;

在所述第一基板上制作栅极绝缘层,所述栅极绝缘层覆盖所述第一金属层;

在所述栅极绝缘层上制作钝化层;

在所述钝化层的上表面一侧内部嵌设第二金属层,所述第二金属层位于所述第一区域;所述钝化层设有延伸至所述第一金属层表面的第一凹槽和所述第二金属层表面的第二凹槽;以及

在所述钝化层上制作第二走线层,所述第二走线层延伸至所述第一凹槽和所述第二凹槽的表面与所述第一金属层和所述第二金属层连接。

9.根据权利要求6所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,所述制作阵列基板步骤包括:

在一第一基板上制作第一金属层;

在所述第一基板上制作栅极绝缘层,所述栅极绝缘层覆盖所述第一金属层;

在所述栅极绝缘层上制作第二金属层,所述第二金属层位于所述第一区域;

在所述栅极绝缘层上制作钝化层,所述钝化层覆盖所述第二金属层;所述钝化层设有延伸至所述第一金属层表面的第一凹槽和所述第二金属层表面的第二凹槽;以及

在所述钝化层上制作第二走线层,所述第二走线层延伸至所述第一凹槽和所述第二凹槽的表面与所述第一金属层和所述第二金属层连接。

10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1所述的液晶显示面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011606295.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top