[发明专利]一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法

权利要求书

1.一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，所述双面数字化光刻系统包括：

上引擎模组(200)，其用于投射光线，在待曝光的感光基板的上表面形成第一光刻图案；

下引擎模组(300)，其用于投射光线，在待曝光的感光基板的下表面形成第二光刻图案；

标定系统模组(400)，用于标定所述上引擎模组(200)和下引擎模组300所形成第一和第二光刻图案之间的位置偏差dx和dy，所述标定系统模组(400)包括视觉系统(410)和玻璃标尺(420)，所述玻璃标尺(420)在Z向上位于上引擎模组(200)和下引擎模组(300)之间，所述视觉系统(410)包括分光棱镜(411)和标定相机(413)，

所述上引擎模组(200)和下引擎模组(300)中的一个的投射光线穿过所述玻璃标尺(420)再经过分光棱镜(411)反射，成像在标定相机(413)上；所述上引擎模组(200)和下引擎模组(300)中的另一个的投射光线在玻璃标尺(412)表面反射，反射光线再次到达分光棱镜(411)后，成像在标定相机(413)上；

所述方法包括下述步骤：

步骤1、所述上引擎模组(200)的上光学系统(210)投射光线，在标定相机(413)中形成第一标定图形(601)，确定第一标定图形(601)在标定相机(413)成像的图像中的像素坐标(X1、Y1)；

步骤2、所述下引擎模组(300)的下光学系统(310)投射光线，在标定相机(413)中形成第二标定图形(602)，确定第二标定图形(602)在标定相机(413)成像的图像中的像素坐标(X2、Y2)；

步骤3、基于第一标定图形(601)在标定相机(413)成像的图像中的像素坐标(X1、Y1)、第二标定图形(602)在标定相机(413)成像的图像中的像素坐标(X2、Y2)，确定下光学系统(310)和上光学系统(210)的相对位置偏移。

2.如权利要求1所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，

计算dx和dy，dx＝(X2-X1)*k,dy＝(Y2-Y1)*k；其中k为标定相机(413)的像素大小，(dx,dy)表示下光学系统(310)相对于上光学系统(210)的位置偏移。

3.如权利要求2所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，

首先在标定相机(413)中形成第一标定图形(601)，再获取第一标定图形(601)的像素坐标(X1、Y1)；然后在标定相机(413)中形成第二标定图形(602)，再获取第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)；或者

首先在标定相机(413)中形成第二标定图形(602)，再获取第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)；然后在标定相机(413)中形成第一标定图形(601)，再获取第一标定图形(601)的像素坐标(X1、Y1)。

4.如权利要求3所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，第一标定图形(601)和第二标定图形(602)为相同的图形。

5.如权利要求2所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，同时在标定相机(413)中形成第一标定图形(601)和第二标定图形(602)，再获取第一标定图形(601)的像素坐标(X1、Y1)和第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)。

6.如权利要求5所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，第一标定图形(601)和第二标定图形(602)为不同的图形。