[发明专利]一种PVD连续镀膜设备及镀膜方法

权利要求书

1.一种PVD连续镀膜设备，其特征在于：包括依次设置的装载腔、第一过渡腔、镀膜腔组、第二过渡腔、卸载腔和输送组件，所述装载腔的入口、所述装载腔与所述第一过渡腔之间、所述第一过渡腔与所述镀膜腔组之间、所述镀膜腔组与所述第二过渡腔之间，所述第二过渡腔与所述卸载腔之间以及卸载腔的出口均设有真空隔离阀，各腔室均设有对应的真空泵组，所述装载腔和卸载腔均设有泄气阀，其中：

所述装载腔用于装载基片，并将基片所处的环境从大气环境转变为第一真空环境，以及将装载腔的环境从第一真空环境还原至大气环境；

所述第一过渡腔用于将基片所处的环境从第一真空环境转变为符合工艺要求的第二真空环境；

所述镀膜腔组用于对处于真空环境下的基片进行连续镀膜；

所述第二过渡腔用于将基片所处的环境从第二真空环境恢复为第一真空环境；

所述卸载腔用于并将基片所处的第一真空环境还原至大气环境，并卸载基片，以及将装载腔的环境从大气环境转变为第一真空环境；

所述输送组件用于带动基片按照工艺路径移动。

2.如权利要求1所述的PVD连续镀膜设备，其特征在于：所述真空泵组包括装载腔真空泵、第一过渡腔前级分子泵、第一过渡腔分子泵、镀膜腔前级分子泵、第二过渡腔前级分子泵、第二过渡腔分子泵、卸载腔真空泵和多个镀膜腔分子泵，所述装载腔真空泵通过装载腔角阀与所述装载腔连接，所述第一过渡腔前级分子泵和第一过渡腔分子泵分别与所述第一过渡腔连接，所述第二过渡腔前级分子泵和第二过渡腔分子泵分别与所述第二过渡腔连接，所述卸载腔真空泵通过卸载腔角阀与所述卸载腔连接，每个镀膜腔中均设有镀膜腔分子泵。

3.如权利要求2所述的PVD连续镀膜设备，其特征在于：所述镀膜腔组包括至少两个镀膜腔，每个镀膜腔中均设有两套镀膜系统，两套镀膜系统分别设置于所述输送组件的两侧。

4.如权利要求3所述的PVD连续镀膜设备，其特征在于：每个镀膜腔入料端沿所述输送组件的两侧均设有加热器。

5.如权利要求4所述的PVD连续镀膜设备，其特征在于：每个镀膜腔中均设有工艺气体系统。

6.如权利要求5所述的PVD连续镀膜设备，其特征在于：所述输送组件包括第一速度输送装置和第二速度输送装置，所述第一速度输送装置设置于所述装载腔、所述第一过渡腔、第二过渡腔和卸载腔，所述第二速度输送装置设置于所述镀膜腔组中，所述第一速度输送装置用于将基片以第一速度由装载腔经第一过渡腔输送至镀膜腔组，以及将基片以第一速度由镀膜腔组经第二过渡腔输送至卸载腔；所述第二速度输送装置用于将基片以第二速度输送至镀膜腔组进行镀膜。

7.如权利要求6所述的PVD连续镀膜设备，其特征在于：所述第一过渡腔与所述镀膜腔组之间设有第一变速过渡腔，所述镀膜腔组与所述第二过渡腔之间设有第二变速过渡腔，所述第一过渡腔与所述第一变速过渡腔之间设有真空隔离阀，所述第二变速过渡腔与所述第二过渡腔之间设有真空隔离阀。

8.如权利要求7所述的PVD连续镀膜设备，其特征在于：所述第一过渡腔沿所述输送组件的两侧设有加热器；所述第一变速过渡腔沿所述输送组件的两侧设有加热器。

9.如权利要求8所述的PVD连续镀膜设备，其特征在于：所述输送组件还包括第一平移装置和第二平移装置，所述装载腔的入口通过过渡架与第一平移装置的基片装载工位连接，所述卸载腔的出口通过过渡架与第二平移装置的基片卸载工位连接，所述第一平移装置用于将回流接收工位的基片架输送至基片装载工位，所述第二平移装置用于将基片卸载工位的基片架输送至回流发送工位，所述回流接收工位通过回流输送装置与所述回流发送工位连接。

10.一种镀膜方法，其特征在于采用如权利要求1-9任意一项所述的设备，包括：

S1、将基片装载至载片架；

S2、将载片架以第一速度输送至装载腔，对装载腔进行抽真空处理，使装载腔的大气环境转变为第一真空环境；

S3、将载片架以第一速度输送至第一过渡腔，对第一过渡腔进行抽真空处理，使第一过渡腔的第一真空环境转变为符合工艺要求的第二真空环境；

S4、将载片架以第二速度输送至镀膜腔组进行镀膜处理；

S5、将载片架以第二速度输送至第二过渡腔，并将第二过渡腔的第二真空环境还原至第一真空环境；

S6、将载片架以第一速度输送至卸载腔，并将卸载腔的第一真空环境还原为大气环境；

S7、将载片架以第一速度输送至基片卸载工位；

S8、通过机械手将载片架的基片卸载；

S9、将载片架输送至回流接收工位；

S10、将载片架移动至基片装载工位，回到步骤S1。