[发明专利]一种光学成像膜、制备方法在审

专利信息
申请号: 202011617582.X 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN114690439A 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 郑伟伟;陈适宇;申溯 申请(专利权)人: 昇印光电(昆山)股份有限公司
主分类号: G02B30/27 分类号: G02B30/27;G02B30/29;B44C5/00;G09F3/02
代理公司: 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 代理人: 唐学青
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 成像 制备 方法
【说明书】:

本申请提出一种光学成像膜、制备方法。该方法制备的光学成像膜呈现可周期的、变周期的或局部变周期变化的图像信息,图像信息的参数不易被测量,相对于传统的周期或者变周期成像膜以达到显示不同高度、不同大小的周期或变周期莫尔图像。这样该成像膜具有较好的装饰效果同时难以仿制,使得其可应用于防伪要求高的场合。

技术领域

本申请涉及薄膜技术领域,具体的涉及一种周期或变周期成像的光学成像膜、制备方法。

背景技术

3D成像技术受到越来越多的关注,已成功应用于信息、显示、防伪、装饰等领域。基于微透镜阵列实现的成像技术具有极大的潜力和发展前景,逐渐发展成为最具潜力和前景的自动显示技术,其成像通常采用莫尔成像技术,形成光学成像膜。随着微透镜阵列制造工艺的发展和高分辨率印刷和图像传感器的普及,3D成像技术吸引了越来越多的关注,3D成像的各项性能,比如景深,视角等,也得到了较大的提升,但仍然需要改进。

发明内容

本申请的创作如下:发明人研究分析发现,3D成像技术形成的上浮或下沉的图像与透镜阵列和图文的周期相关,且形成的图像的成像的高度、大小、分布等受到透镜阵列与图文的周期比(比例因子)的限制,例如透镜分布方式是周期蜂窝分布,则变周期要么采用一维变周期分布,要么为正六边形变化分布,但是设计不了圆形分布,而只能做出有限制条件的成像薄膜。

基于此,本发明的一个方面,提供一种新的光学成像膜的制备方法,该方法通过预设的成像的高度或下沉的深度进行逆算并据此配置图文层来制作周期、变周期或局部变周期的效果成像膜其防伪性能更佳。

为了实现上述目的,本申请采用如下技术方案,

一种光学成像膜,其特征在于,包括:

聚焦层和图文层,

所述聚焦层包括至少一个聚焦单元,所述聚焦单元包括:多个微透镜;

所述图文层包括至少一个图文单元,所述图文单元包括多个微图文,且所述微图文与微透镜对应设置;

存在至少一个所述聚焦单元的多个微透镜与所述图文单元的多个微图文相适配以形成预设图像的影像,其中所述预设图像的像高变化设置,相应的微透镜或微图文的位置偏移设置。光学成像膜,其成像具有周期、变周期或局部变周期的显示效果,由于图文层的微图文的大小和周期各不相同,参数不能被测量,使得该光学成像膜的防伪性能更佳。

在一实施方式中,该光学成像膜呈现二维变周期分布的图像或呈现圆形渐变分布的图像。

在一实施方式中,该微图文设置为预设图像的图案,以形成预设图像的放大影像或所述微图文为预设图像的部分图案,以形成预设图像的放大影像。

在一实施方式中,该预设图像为平面网格,每个微图文均设置为所述平面网格的部分网格图案,通过微图文和聚焦单元对应设置形成立体图像。

在一实施方式中,该一个聚焦单元对应多个微图文,多个所述微图文分别形成悬浮或下沉的图像。

本申请实施例提出一种光学成像膜的制作方法,其特征在于,所述光学成像膜包括依次层叠的聚焦层及图文层,所述聚焦层包括微透镜,

所述方法包括:

基于图像模块模拟出像高变化设置的预设图像;

获取所述已知的微透镜的位置信息及所述预设图像的像高信息;

基于数据处理模块逆算出求出微图文的位置信息,

基于算出的微图文的位置信息制作图文层。

在一实施方式中,该光学成像膜还包括中间层,所述聚焦层和图文层分别设置于所述中间层的两侧,所述制作方法还包括获取所述中间层的厚度和折射率信息。

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