[发明专利]一种常压滚筒式粉体改性装置

说明书

本发明公开了一种常压滚筒式粉体改性装置，所述常压滚筒式粉体改性装置包括电极单元、驱动单元、进出气单元及结构单元，所述电极单元设置在所述装置的中央位置，通过电路与电源(图中未示出)和地面(图中未示出)连接，所述驱动单元与电极单元连接，所述进出气单元与电极单元连接，所述结构单元与驱动单元、进出气单元连接。所述装置的使用方法如下：空压机和真空泵在滚筒内形成螺旋气流，所述滚筒在从动轮的带动下开始转动，滚筒内的粉体材料在搅拌片和螺旋气流的双重作用下，充满滚筒内部空间，所述电极上的三角形金属片尖端与滚筒在常压状态下放电产生等离子体，从而提高等离子体对粉体材料处理的均匀性。

技术领域

本发明涉及等离子体处理的技术领域，具体地说是一种常压滚筒式粉体改性装置。

背景技术

随着高性能结构材料技术和先进材料加工技术的快速发展，人们对材料的韧性和刚性、环保性、循环利用性和使用寿命等提出了更高的要求。因此，通过对材料表面处理来改变材料表面的形态、化学成分、组织结构等性质以提高材料各方面性能的技术在近年来得到了迅速发展。在物理处理、化学处理和机械处理等众多表面处理方法中，等离子体表面处理技术因其清洁高效、能耗低、无废弃物等优点而快速发展。目前，针对不同的产业应用，不同物料形状和材质的等离子体处理技术已经出现明显分工。真空等离子体由于具有较好的重复性和全覆盖性，在工业领域得到了较为广泛的应用。但主要应用在对块状材料的表面处理中。

粉体材料，包括食品领域的香辛料以及工业领域的工业粉体材料，由于其表面积大，非常容易团聚，而等离子体与材料的反应仅限于材料表面，堆积状态下的粉体材料在等离子体环境中只有表层能得到处理。因此，在对粉体材料进行等离子体处理的过程中，往往由于微粒间的团聚使得没有暴露在表面的部分得不到等离子体处理，难以实现对微粒表面全部处理，导致处理不完全、不均匀，处理效果差。

中国专利(CN201380032762.3)公开了一种粉末等离子体处理装置。粉末等离子体处理装置包括：腔体，其用于对粉末进行等离子处理；粉末供应部，其位于所述腔体的上部；以及多个板状的面放电等离子模块，其位于所述粉末供应部的下方，并且位于所述腔体内，其中所述面放电等离子模块的面和面之间彼此相隔。这种粉末等离子处理装置能够通过控制粉末接触等离子体的时间对粉末进行有效处理。但是由于粉末从粉末供应部自由落下，在所述腔体内部的空间位置关系相对固定，往往只能对分布于表层的粉末进行等离子体处理，处理效果的均匀性难以保证。

因此，如何提供一种常压滚筒式粉体改性装置，在现有常压状态等离子体处理粉体的技术基础上，通过改进所述滚筒内部的结构组成和连接方式，充分利用放电空间，提高等离子体对粉体材料处理的均匀性，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本申请的目的在于提供一种常压滚筒式粉体改性装置，采用内壁带有螺旋状搅拌片的滚筒，所述螺旋状搅拌片带动粉体在装置内运动，充分利用装置内部的放电空间，提高常压状态下等离子体对粉体处理的均匀性，进而达到处理均匀、密封性好、装置结构简单等技术效果。

为了达到上述目的，本申请提供如下技术方案。

一种常压滚筒式粉体改性装置，包括电极单元、驱动单元、进出气单元及结构单元，所述电极单元设置在所述装置的中央位置，通过电路与电源和地面连接，用于对粉体材料进行等离子体处理，所述驱动单元与电极单元连接，用于给电极单元提供动力，所述进出气单元与电极单元连接，用于给电极单元提供流动的气体，所述结构单元与驱动单元、进出气单元连接，用于承载驱动单元和进出气单元；

所述电极单元包括滚筒、搅拌片、第一滚筒盖、第二滚筒盖、电刷滑环、电极柱、电极，所述滚筒采用圆柱形空心管状结构，所述搅拌片设置在所述滚筒内部，与滚筒的内侧筒壁连接，所述第一滚筒盖设置在滚筒左侧，左半部分采用圆柱体结构，右半部分采用圆板结构，与所述滚筒连接，所述第二滚筒盖设置在滚筒右侧，采用右侧带有接口的圆板结构，与所述滚筒连接，所述电刷滑环设置在滚筒上方，一端与滚筒外侧筒壁接触，另一端通过电路与地面连接；