[发明专利]在存储器子系统中管理子块擦除操作在审

专利信息
申请号: 202011620943.6 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN113129982A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: K·C·卡瓦利普拉普;T·O·伊瓦萨基;E·E·于;H-Y·陈;徐昀飞 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: G11C16/16 分类号: G11C16/16;G11C16/34;G11C5/14;G11C7/18;G11C8/14;G06F13/16
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 存储器 子系统 管理 擦除 操作
【说明书】:

本申请案涉及在存储器子系统中管理子块擦除操作。存储器系统中的处理装置接收擦除存储在存储器装置的数据块处的数据的擦除请求,所述擦除请求识别所述数据块的多个子块中用于擦除的选定子块,所述多个子块中的每一个包括选择栅极装置SGD及数据存储装置。对于所述多个子块中未选定用于擦除的每一子块,所述处理装置在所述相应子块的位线处施加输入电压,且向所述相应子块的多个字线施加多个栅极电压,所述多个字线耦合到所述SGD及所述数据存储装置,施加到所述多个字线中的连续字线的所述多个电压中的每一电压比施加到前一字线的前一电压小等于降压区间的量。

技术领域

本公开的实施例大体来说涉及存储器子系统,且更具体来说,涉及管理存储器子系统中的子块擦除操作。

背景技术

存储器子系统可包含存储数据的一或多个存储器装置。存储器装置可为例如非易失性存储器装置及易失性存储器装置。通常,主机系统可利用存储器子系统来将数据存储在存储器装置处并从存储器装置检索数据。

发明内容

在一个方面中,本申请案提供一种方法,其包括:接收擦除存储在存储器装置的数据块处的数据的擦除请求,所述擦除请求识别所述数据块的多个子块中用于擦除的选定子块,所述多个子块中的每一个包括一或多个选择栅极装置(SGD)及多个数据存储装置;对于所述多个子块中未选定用于擦除的每一子块:在所述相应子块的位线处施加输入电压;及将多个栅极电压施加到所述相应子块的多个字线,所述多个字线包括耦合到所述一或多个SGD的一或多个字线及耦合到所述多个数据存储装置中的第一子组的一或多个虚拟字线,其中施加到所述多个字线中的连续字线的所述多个栅极电压中的每一电压比施加到前一个字线的前一个电压小等于降压区间的量,且其中所述输入电压在用于存储主机数据的第一数据字线处降低到阈值电平;及执行擦除操作以擦除存储在所述选定子块处的数据。

在另一方面中,本申请案提供一种系统,其包括:存储器装置;及处理装置,其与所述存储器装置操作地耦合,以执行包括以下的操作:接收擦除存储在存储器装置的数据块处的数据的擦除请求,所述擦除请求识别所述数据块的多个子块中用于擦除的选定子块,所述多个子块中的每一个包括一或多个选择栅极装置(SGD)及多个数据存储装置;对于所述多个子块中未选定用于擦除的每一子块:在所述相应子块的位线处施加输入电压;及将多个栅极电压施加到所述相应子块的多个字线,所述多个字线包括耦合到所述一或多个SGD的一或多个字线及耦合到所述多个数据存储装置中的第一子组的一或多个虚拟字线,其中施加到所述多个字线中的连续字线的所述多个电压中的每一电压比施加到前一个字线的前一个电压小等于降压区间的量,且其中所述输入电压在用于存储主机数据的第一数据字线处降低到阈值电平;及执行擦除操作以擦除存储在所述选定子块处的数据。

在又一方面中,本申请案提供一种存储器装置,其包括:所述存储器装置的数据块的多个子块中的第一子块,所述第一子块包括用于擦除操作的选定子块,其中所述多个子块中的每一子块包括一或多个选定栅极装置(SGD)及多个数据存储装置;及所述存储器装置的所述数据块的所述多个子块中的第二子块,所述第二子块包括未选定用于所述擦除操作的子块,其中所述第二子块的多个字线经配置以在对所述选定子块执行的所述擦除操作期间接收不同栅极电压,所述多个字线包括耦合到所述第二子块的一或多个SGD的一或多个字线及耦合到所述第二子块的多个数据存储装置中的第一子组的一或多个虚拟字线,其中施加到所述多个字线中的连续字线的每一栅极电压比施加到前一个字线的前一个栅极电压小等于降压区间的量,其中栅极电压在用于存储主机数据的第一数据字线处降低到阈值电平。

附图说明

从下文给出的详细描述及从本公开的各种实施例的附图将更全面理解本公开。

图1根据本公开的一些实施例说明包含存储器子系统的实例计算系统。

图2为根据本公开的一些实施例说明存储器子系统中的存储器装置的数据块中的选择栅极装置及数据存储装置的框图。

图3为根据本公开的一些实施例说明在擦除操作期间使用装置串的栅极电压降压过程的图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011620943.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top