[发明专利]一种AlSi10Mg粉末及激光选区熔化制造工艺

权利要求书

1.一种AlSi10Mg粉末，其特征在于，以原子百分比计，所述AlSi10Mg粉末中包含0.02～0.2at％的Er和0.02％～0.08at％的Zr。

2.根据权利要求1所述的一种AlSi10Mg粉末，其特征在于，以原子百分比计，所述AlSi10Mg粉末中包含0.02～0.06at％的Er和0.02％～0.06at％的Zr。

3.根据权利要求1或2所述的一种AlSi10Mg粉末，其特征在于，以质量％计，所述AlSi10Mg粉末中主要合金元素为：Si 7.50～11.50％，Mg 0.20～0.55％，余量为铝；优选的，以质量％计，所述AlSi10Mg粉末中主要合金元素为：Si 8.50～9.50％，Mg 0.20～0.40％，余量为铝。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种AlSi10Mg粉末，其特征在于，以质量％计，所述AlSi10Mg粉末中其他杂质还包含：Mn≤0.50％，Cu＜0.10％，Fe＜0.15％，优选的，以质量％计，所述AlSi10Mg粉末中其他杂质还包含：Mn 0.25～0.50％，Cu≤0.05％，Fe 0.08～0.15％。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种AlSi10Mg粉末，其特征在于，所述AlSi10Mg粉末的粒径为20～53μm，优选的，所述AlSi10Mg粉末为Er、Zr原位合金化的粉末。

6.一种利用权利要求1-5任一项所述的AlSi10Mg粉末的激光选区熔化制造工艺，其特征在于，包括如下步骤：

(1)在基板上铺设所述AlSi10Mg粉末，得到粉末层；

(2)在惰性气体保护下，利用激光对步骤(1)的粉末层进行扫描，进行激光选区熔化成型；

(3)通过线切割将步骤(2)的成型件从基板上取下。

7.根据权利要求6所述的激光选区熔化制造工艺，其特征在于，进行铺粉前，将所述AlSi10Mg粉末在80～110℃下真空烘干1～8h。

8.根据权利要求6或7所述的激光选区熔化制造工艺，其特征在于，步骤(1)中，所述粉末层的厚度为20～50μm。

9.根据权利要求6-8任一项所述的激光选区熔化制造工艺，其特征在于，步骤(2)中，激光扫描的参数包括：激光功率为90～110W，光斑直径为40～60μm，扫描间距为30～50μm，扫描速率为900～1900mm/s。

10.根据权利要求6-9任一项所述的激光选区熔化制造工艺，其特征在于，步骤(2)中，体能量密度控制在52～60J/mm³；

和/或，步骤(2)中，在惰性气体保护下，氧含量为100～1000ppm。