[发明专利]一种电子束曝光机、调焦方法及装置

权利要求书

1.一种电子束曝光机，其特征在于，包括：

电子束发射装置，用于发出电子束对待曝光样品进行曝光，其中，所述待曝光样品包括一个或多个曝光单元；

光学聚焦测试装置，用于将探测光照射到所述待曝光样品的当前曝光单元内，并采集所述当前曝光单元对应的反射光图像，所述反射光图像用于确定所述当前曝光单元的位置信息，以基于所述位置信息，调整所述电子束发射装置对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

2.如权利要求1所述的电子束曝光机，其特征在于，所述光学聚焦测试装置包括：光源模组和光探测模组；

所述光源模组用于产生探测光，并使得所述探测光以预设角度倾斜入射到所述待曝光样品的当前曝光单元内；

所述光探测模组用于采集被所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像。

3.如权利要求2所述的电子束曝光机，其特征在于，所述光源模组包括光源组件和光束调节组件，所述光源组件用于产生探测光，所述光束调节组件用于调整所述探测光的路径和/或所述探测光对应的光斑尺寸，使得所述探测光以预设角度倾斜入射到所述当前曝光单元内。

4.如权利要求3所述的电子束曝光机，其特征在于，所述光束调节组件包括第一反射镜以及第一透镜组，所述第一反射镜用于调整所述探测光的路径，所述第一透镜组用于调整所述探测光入射到所述待曝光样品上的光斑尺寸。

5.如权利要求2所述的电子束曝光机，其特征在于，所述光探测模组包括光阑以及光电探测器，所述光阑设置在所述当前曝光单元与所述光电探测器之间的反射光传输路径上，所述光阑用于阻挡除所述当前曝光单元反射的探测光以外的杂散光，所述光电探测器用于采集被所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像。

6.如权利要求5所述的电子束曝光机，其特征在于，所述光探测模组还包括第二反射镜和第二透镜组，所述当前曝光单元的反射光经过所述第二透镜组、所述第二反射镜聚焦到所述光电探测器的感光区域。

7.如权利要求1所述的电子束曝光机，其特征在于，还包括：数据处理装置，所述数据处理装置分别与所述光学聚焦测试装置以及所述电子束发射装置连接，所述数据处理装置用于基于所述当前曝光单元对应的反射光图像，确定所述当前曝光单元的位置信息，并基于所述位置信息，调整所述电子束发射装置对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

8.一种电子束曝光机调焦方法，其特征在于，所述方法包括：

控制探测光照射到待曝光样品的当前曝光单元内，其中，所述待曝光样品包括一个或多个曝光单元；

通过采集所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像；

根据所述反射光图像确定所述当前曝光单元的位置信息；

基于所述位置信息，调整所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述基于所述位置信息，调整所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置，包括：

将所述位置信息与预设的基准位置进行比较，得到位置偏差值；

基于所述位置偏差值补偿所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

10.一种电子束曝光机调焦装置，其特征在于，所述装置包括：

控制模块，用于控制探测光照射到待曝光样品的当前曝光单元内，其中，所述待曝光样品包括一个或多个曝光单元；

图像采集模块，用于通过采集所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像；

位置确定模块，用于根据所述反射光图像确定所述当前曝光单元的位置信息；

调整模块，用于基于所述位置信息，调整所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。