[发明专利]具有涂覆于圆柱形对称元件上的靶材料的基于等离子体的光源

权利要求书

1.一种装置，其包括：

圆柱形对称元件，其可绕轴旋转且具有涂覆有具有暴光表面且在所述暴光表面上的照射位点处界定表面法线的等离子体形成靶材料的带的表面；及

系统，其输出激光束以与所述靶材料相互作用以产生等离子体，所述激光束在所述照射位点处沿着激光轴行进，其中所述激光轴及所述表面法线在所述照射位点处对向非零角度α。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述角度α大于10度。

3.根据权利要求1所述的装置，其中所述激光轴法向对准于与所述照射位点相交的轴且平行对准于所述旋转轴。

4.根据权利要求1所述的装置，其中所述激光轴法向对准于与所述照射位点相交的轴且平行对准于所述旋转轴。

5.一种装置，其包括：

圆柱形对称元件，其可绕轴旋转且具有涂覆有具有暴光表面的等离子体形成靶材料的带的表面；

系统，其输出激光束以与所述靶材料相互作用以产生等离子体；及

聚焦单元，其将所述激光束聚焦到在所述聚焦单元与所述等离子体形成靶材料的所述暴光表面之间的位置处的腰部。

6.一种装置，其包括：

圆柱形对称元件，其可绕轴旋转且具有涂覆有等离子体形成靶材料的带的表面；及

系统，其照射所述靶材料以产生等离子体，所述系统输出具有强度最大值I₁及脉冲能量E₁的第一激光束脉冲，及具有强度最大值I₂及脉冲能量E₂的第二激光束脉冲，其中E₁E₂，且I₁与I₂之间的时间延迟经选择以引起所述第一激光束脉冲预调节所述等离子体形成靶材料以减少由所述第二激光束脉冲对所述圆柱形对称元件的所述表面的照射损坏。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所述第一激光束脉冲相比于所述第二激光束脉冲具有较长的脉冲持续时间。

8.根据权利要求6所述的装置，其中所述第一激光束脉冲相比于所述第二激光束脉冲具有较短的波长。

9.根据权利要求6所述的装置，其中I₁与I₂之间的所述时间延迟在10ns到10μs的范围中。

10.根据权利要求6所述的装置，其中所述第一激光束脉冲的所述强度最大值I₁大于所述第二激光束脉冲的所述强度最大值I₂(I₁﹥I₂)。

11.一种装置，其包括：

圆柱形对称元件，其可绕轴旋转且具有涂覆有等离子体形成靶材料的带的表面，所述表面形成有多个轴向对准凹槽，其中每一凹槽是由一对鳍片建立，其中每一鳍片具有鳍片尖端，且其中每一凹槽具有从鳍片尖端到凹槽表面部分的大于1mm的凹槽深度；

系统，其输出激光束；及

聚焦单元，其聚焦所述激光束且建立照射位点以从所述靶材料产生等离子体，所述照射位点远离所述凹槽表面部分以保护所述表面部分免于照射损坏。

12.根据权利要求11所述的装置，其中等离子体形成靶材料的所述带具有远离鳍片尖端达大于0.5mm的暴光靶材料表面。

13.根据权利要求11所述的装置，其中所述凹槽具有根表面，及所述根表面与鳍片尖端之间的面，且其中所述根表面的至少部分具有表面粗糙度SR1，且所述面的至少部分具有表面粗糙度SR2，其中SR1SR2。

14.根据权利要求11所述的装置，其进一步包括用于输出指示所述圆柱形对称元件的旋转位置的信号的编码器。