[发明专利]一种可提高钕铁硼表层镍表面张力的处理剂及处理方法

说明书

本发明公开了一种可提高钕铁硼表层镍表面张力的处理剂及处理方法，属于钕铁硼电镀后处理技术领域。本发明的处理剂可处理镍层表面的粗糙度大于0.1μm；所述处理剂包括试剂A和试剂B，处理剂中的氢氧根浓度为0.2～2.5mol/L；所述试剂A包括强碱溶液和/或氨水；所述试剂B包括金属有机盐，所述金属有机盐包括0.03～0.2mol/L十二烷基磺酸根和0.04～0.12mol/L柠檬酸根。本发明能够提升镍层表面与金属有机盐中的十二烷基磺酸根和柠檬酸根的结合力，镍层表面在该有机极性基团的作用下，极易与R‑OH或R‑CONH₂等极性基团形成极性键，因此宏观表现为增加表面张力。

技术领域

本发明属于钕铁硼电镀后处理技术领域，更具体地说，涉及一种可提高钕铁硼表层镍表面张力的处理剂及处理方法。

背景技术

当前对于VCM等微小电机领域的磁钢需求越来越大，要求的磁钢尺寸也越来越小。在装载微小磁钢时，需要用胶水将钕铁硼磁钢和装载工件进行粘结。因此，对钕铁硼磁钢表面镀层张力有一定要求。目前钕铁硼磁钢的表面镀镍层张力正常需要达到38mN/m以上才能满足粘胶需求，但是传统的亮镍工艺无法满足上述要求。业内为了达到镀层表面张力需求，往往需要开发新的镀种，如暗镍工艺，要额外投入较多的人力物力。

经检索，中国发明专利CN111005044A公开了一种提高钕铁硼磁体表面张力的暗镍滚镀工艺，先对钕铁硼磁体进行前处理，然后对前处理后的钕铁硼进行电镀处理，最后对电镀后的钕铁硼进行后处理和清洗烘干处理，在电镀过程中，在钕铁硼磁体表面形成了预镀镍层、碱性暗铜电镀层、过渡暗镍层及表面暗镍层构成的复合镀层，与钕铁硼磁体表面之间接触的预镀镍层主要成分为硫酸镍、氯化镍、硼酸和光亮剂，碱性暗铜电镀层主要成分为焦磷酸铜和焦磷酸钾，过渡暗镍层和表面暗镍层则通过光亮剂的调整和改变来达到钕铁硼磁体的表面张力的要求。该工艺的优点是在保证镀层具有较高的耐腐蚀性能基础上，具有较高的表面张力，但是该处理方法需要在钕铁硼磁体表面先后形成预镀镍层、碱性暗铜电镀层、过渡暗镍层及表面暗镍层，对于镀层的要求较高，且暗镀工艺复杂，镀种通用性较差。

因此，目前亟需设计一种能够简单、有效提高钕铁硼表层镍表面张力的处理剂或处理方法。

发明内容

1.要解决的问题

针对现有技术中传统工艺无法满足钕铁硼磁体表层镍表面张力要求的问题，本发明提供一种可提高钕铁硼表层镍表面张力的处理剂及处理方法；通过合理设计处理剂的组分及含量，在合适的处理温度和时间作用下，有效解决传统工艺无法满足钕铁硼磁体表层镍表面张力要求的问题。

2.技术方案

为了解决上述问题，本发明所采用的技术方案如下：

一种可提高钕铁硼表层镍表面张力的处理剂，所述处理剂可处理粗糙度大于0.1μm的镍层表面；所述处理剂包括试剂A和试剂B，处理剂中的氢氧根浓度为0.2～2.5mol/L；所述试剂A包括强碱溶液和/或氨水；所述试剂B包括金属有机盐，所述金属有机盐包括0.03～0.2mol/L十二烷基磺酸根和0.04～0.12mol/L柠檬酸根。

优选地，所述试剂A为氢氧化钠。

优选地，所述试剂B包括十二烷基磺酸钠和柠檬酸三钠。

优选地，还包括消泡剂，所述消泡剂包括磷酸酯类化合物或有机硅氧烷类化合物。

优选地，所述消泡剂为磷酸三丁酯，磷酸三丁酯与试剂B的质量比为1：(10～100)。

优选地，还包括试剂C，试剂C为无机强碱弱酸盐溶液；该强碱弱酸盐包括1～10wt％的碳酸钠和1～5wt％的硅酸钠。

优选地，所述试剂C与试剂B之比为(1～5)：1；该质量比下的试剂C可以增强极性基团与试剂B之间的结合力，从而表现为提升表面张力。