[发明专利]镀膜装置及其承载座

说明书

本发明揭露一种镀膜装置，包含：一第一外壳，具有一顶部和一侧部；及一第二外壳，容置于该第一外壳中且至少部分自该第一外壳的顶部朝下扩散延伸，该第一外壳与该第二外壳之间定义一第一空间，该第二外壳定义一第二空间，该第一空间围绕该第二空间且两者不连通。

技术领域

本发明是关于一种镀膜装置，尤其是关于一种适用于三维样品的气相沉积装置。

背景技术

气相沉积处理装置，尤其是用于在块状物体(如镜片)上形成薄膜(如原子沉积层，ALD)，通常会面临一些问题，像是块状物体的背面会形成非期望的薄膜，这是因为块状体的非沉积背面不一定是平面，因此块状体会与一承载面之间产生缝隙，导致沉积气体经由缝隙流过块状体的背面。此外，由于块状体具有一定的体积，所需的处理腔体也必须具有相当的空间容纳块状体，因此需要清洁腔体的能力也需要一并提升。再者，由于腔体的空间增加，腔体温度方面的控制，像是温度分布均匀度和散热速度等，也成为一项挑战。

因此，有必要发展出可改善前述问题的气相沉积装置。

发明内容

本发明的目的在于提供一种镀膜装置，包含：一第一外壳，具有一顶部和一侧部；及一第二外壳，容置于该第一外壳中且至少部分自该第一外壳的顶部朝下扩散延伸，该第一外壳与该第二外壳之间定义一第一空间，该第二外壳定义一第二空间，该第一空间围绕该第二空间且两者不连通。

在一具体实施例中，该第二外壳具有一顶部和一底部，该第二外壳的顶部具有一直径，该第二外壳的底部具有一直径，该第二外壳的直径自其顶部至底部为增加。

在一具体实施例中，该第一外壳的侧部具有一壁架，该第二外壳的底部坐落于该壁架上。

在一具体实施例中，该第一空间维持在一大气压，该第二空间为用于镀膜的一反应区。

在一具体实施例中，该第二外壳的顶部具有一气体信道，该气体信道的一下游处提供有用于分散气体的一气体阻隔板。

本发明的另一目的在于提供一种承载座，用于承载被镀膜的一物体且配置成可升降于一第一壳体中，包含：一支撑杆，具有一顶部并配置成自该顶部提供一气体；及一承载盘，连接于该支撑杆的顶部且具有一朝上面和自该朝上面向上延伸用于支撑该物体的一支撑部，其中该朝上面具有接收该气体的至少一进气孔以及自该朝上面向该承载盘体的一外侧延伸的多个排气孔。其中，该朝上面、该支撑部与该物体之间定义一排气路径，该气体自该进气孔经由该排气路径流至该等排气孔。

在一具体实施例中，该支撑部具有一垫片，该垫片的一内侧具有用于和该物体接触的一倾斜面。

在一具体实施例中，该支撑部与该朝上面之间具有一倾斜面。

在一具体实施例中，该支撑部具有一板，该板形成有多个篓空，该等用于容置多个物体。

在一具体实施例中，该支撑杆具有一密封板，该第一壳体的一侧部提供有一壁架，该密封板配置成在支撑杆位于一高度时接触该壁架，使所述承载座进入由该密封板所密封的一反应区。

附图说明

参考下列实施方式描述及图式，将会更清楚了解到本发明的前述和其他特色及优点。

图1为本发明镀膜装置的示意图。

图2为本发明承载座的一实施例。

图3为本发明承载座的另一实施例。

图4为本发明承载座的再一实施例。

图5为本发明反应区的一实施例。

图6为本发明反应区的另一实施例。

图7为本发明反应区的再一实施例。