[发明专利]一种具有自清洁功能的半导体清洗设备

说明书

本发明公开了一种具有自清洁功能的半导体清洗设备，属于半导体技术领域，包括晶圆承载平台、第一升降机构、外罩、多个回收环、清洗液供应端和控制机构；外罩边沿设有第一喷嘴；回收环上倾斜设置有防溅板，防溅板上设有喷嘴模组，相邻防溅板之间形成腔室；控制机构根据清洗指令控制清洗液供应端提供清洗液，并控制第一升降机构升降以使第一喷嘴与其中一个防溅板持平，进而通过第一喷嘴清洗相应的腔室。本发明技术方案的有益效果在于：第一喷嘴能够对喷嘴模组喷射的盲区进行清洁，通过喷嘴模组和第一喷嘴进行双重清洁，通过第一喷嘴和第一升降机构进行分层清洁。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种具有自清洁功能的半导体清洗设备。

背景技术

为了有效地清除单晶圆表面结构的残余物、微尘、脏污需要对单晶圆表面进行清洗。目前，通过采用半导体清洗设备对单晶圆进行清洗，在清洗单晶圆时，将单晶圆置于半导体清洗设备的腔体中，快速旋转单晶圆并通过气体喷流的方式清洗单晶圆上下两面，然而对晶圆进行加工所使用的化学品在处理晶圆后并不会被完全消耗干净，往往存在一定量的残余化学品，滞留在加工晶圆的装置内壁，或者挥发为气体充斥在装置的内部空间，难以去除。长此以往，会导致晶圆的产品质量严重下降，加工处理的周期也会因为反应不畅而大幅度延迟，造成后续的工艺良率的不利影响，因此针对以上问题，迫切需要设计出一种具有自清洁功能的半导体清洗设备，以满足实际使用的需要。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种具有自清洁功能的半导体清洗设备。

本发明所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现：

本发明提供一种具有自清洁功能的半导体清洗设备，包括：

一晶圆承载平台，用于放置晶圆；

一第一升降机构，所述第一升降机构的升降端连接所述晶圆承载平台，所述第一升降机构用于带动所述晶圆承载平台做升降运动；

一外罩，套设于所述第一升降机构的升降端，所述外罩的边沿设有第一喷嘴，所述第一喷嘴用于喷射清洗液；

多个回收环，每个所述回收环的上方倾斜一预设角度设置有对应的防溅板，相邻的两个所述防溅板之间形成一腔室，且每个所述防溅板上分别设有一喷嘴模组；

清洗液供应端，分别连接所有所述第一喷嘴、所有所述喷嘴模组，用于为所述第一喷嘴、所述喷嘴模组提供所述清洗液；

一控制机构，分别连接所述第一升降机构和所述清洗液供应端，所述控制机构用于接收一清洗指令，并根据所述清洗指令控制所述清洗液供应端提供所述清洗液，并控制所述第一升降机构升降，以使所述第一喷嘴与其中一个所述防溅板持平，进而通过所述第一喷嘴清洗相应的所述腔室。

优选地，相邻的两个所述防溅板之间分别设有一引流槽，每个所述引流槽的底端分别连接一引流管路，用于将相应的所述腔室中残留的液体排出。

优选地，所述清洗液供应端为一纳米水分子发生器，所述纳米水分子发生器输入端连接一供水端，所述纳米水分子发生器用于产生纳米小分子水，并提供至所述第一喷嘴、所述喷嘴模组。

优选地，所述纳米水分子发生器连接所述控制机构，所述纳米水分子发生器包括一超声波调节模块、一浓度比例调节模块、一压力调节模块和一温度调节模块，所述纳米水分子发生器用于接收一调节指令，并根据所述调节指令对所述供水端提供的纯水进行超声波、浓度比例、压力和温度调节。

优选地，每个所述防溅板的内部分别嵌套有一第一微型导管；

所述纳米水分子发生器配置有多个管路，每个所述管路分别连接相应的所述防溅板上的所述第一微型导管，所述纳米水分子发生器通过所述管路为相应的所述喷嘴模组提供所述纳米小分子水。