[发明专利]离轴反射式光学镜头的光轴校准方法有效
申请号: | 202011628207.5 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN112596257B | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
发明(设计)人: | 陈晓苹;谷立山;马洪涛;韩冰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G02B27/30 | 分类号: | G02B27/30;G02B17/06 |
代理公司: | 长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 | 代理人: | 高一明;郭婷 |
地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 光学 镜头 光轴 校准 方法 | ||
1.一种离轴反射式光学镜头的光轴校准方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1装调离轴反射式光路的测试系统和待测系统;
其中,所述测试系统包括目标发生器(1)、探测器、第一离轴抛物面主镜(2)、激光发射器(3);所述目标发生器(1)发出的光线与水平面呈一定角度且为球面光,所述第一离轴抛物面主镜(2)接收所述目标发生器(1)发出的光线并将其转化为平行光束;
所述待测系统包括第二离轴抛物面主镜(4)、折返镜(5)、二次聚焦系统(6),还包括作为测试系统的辅助反射工具使用的平面反射镜(7);
所述第二离轴抛物面主镜(4)将所述第一离轴抛物面主镜(2)出射的平行光束向所述折返镜(5)反射,所述第二离轴抛物面主镜(4)出射的光束与水平面呈一定角度并倾斜向下,所述二次聚焦系统(6)将所述折返镜(5)出射的光束聚焦在所述待测系统的焦面上;
S2粗调所述测试系统和待测系统;
步骤S2具体包括如下步骤:
S201将所述激光发射器(3)放置在所述第一离轴抛物面主镜(2)向所述第二离轴抛物面主镜(4)发射的平行光束中;
S202调整所述激光发射器(3)的三维调整机构,使所述激光发射器(3)的出射光束经过所述第一离轴抛物面主镜(2)与所述目标发生器(1)的出射光束路线重合;
S203将所述激光发射器(3)旋转180°,使所述激光发射器(3)出射的光束经所述第二离轴抛物面主镜(4)传送至所述折返镜(5),经所述折返镜(5)由所述二次聚焦系统(6)聚焦在所述待测系统的焦面上;
S204在所述二次聚焦系统(6)后端放置平面反射镜(7),调整所述待测系统的位置,使所述平面反射镜(7)反射的聚焦后光束按原路返回至所述激光发射器(3);
S3根据所述待测系统的焦距大小,调节所述目标发生器(1)出射孔的大小;
S4调整所述测试系统的探测器,使所述探测器目镜内的十字叉丝与所述待测系统的成像点重合,且该成像点为聚焦的最佳像面位置,将此位置记为零点;
S5旋转设置在所述第一离轴抛物面主镜(2)和探测器中间的转台,所述转台上用于放置待观察物品,将转台旋转+θ角度,平移转台X轴使得已偏离的像点调回到十字叉丝位置,记录数据平移距离x1;
S6再次旋转所述转台-θ角度,将已偏离的像点调回到十字叉丝位置,记录数据x2;
S7计算旁轴畸变α,
其中,当α1%时,调节所述待测系统的转台及所述测试系统中探测器的平移机构,调整待测系统的光轴,再进行步骤S4和步骤S5的操作,直至α≤1%,结束精调。
2.根据权利要求1所述的离轴反射式光学镜头的光轴校准方法,其特征在于,所述第一离轴抛物面主镜(2)与第二离轴抛物面主镜(4)反射面相对设置。
3.根据权利要求1所述的离轴反射式光学镜头的光轴校准方法,其特征在于,所述折返镜(5)与竖直平面的夹角为锐角。
4.根据权利要求1所述的离轴反射式光学镜头的光轴校准方法,其特征在于,所述探测器设置在所述测试系统和所述待测系统组成的光路的最后方。
5.根据权利要求1所述的离轴反射式光学镜头的光轴校准方法,其特征在于,所述θ的取值范围为0.5°至1°。
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