[发明专利]清洗方法及装置、处理器及清洗设备有效

专利信息
申请号: 202011634913.0 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112826397B 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 范志恒;全永兵;陈蔚;魏中科;王彩霞 申请(专利权)人: 佛山市顺德区美的洗涤电器制造有限公司
主分类号: A47L15/00 分类号: A47L15/00;A47L15/42;A47L15/44
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 陈潇潇
地址: 528300 广东省佛*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 清洗 方法 装置 处理器 设备
【权利要求书】:

1.一种清洗方法,应用于清洗设备,其特征在于,所述清洗方法包括:

确定所述清洗设备内的待清洗物品包括具有涂层的锅具;

检测用于清洗所述锅具的清洗介质的酸碱值;

根据所述清洗介质的酸碱值添加碱性清洗剂,以将所述清洗介质的酸碱值调整到高于第一酸碱阈值;

使用调整酸碱值后的清洗介质对所述锅具进行清洗。

2.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,所述根据所述清洗介质的酸碱值添加碱性清洗剂,以将所述清洗介质的酸碱值调整到高于第一酸碱阈值包括:

确定所述酸碱值低于所述第一酸碱阈值;

向所述清洗介质中添加与所述酸碱值对应剂量的碱性清洗剂;

经过预设第一时长后,重新检测清洗介质的酸碱值;

在重新检测到的酸碱值低于所述第一酸碱阈值的情况下,重复添加所述碱性清洗剂和重新检测酸碱值的步骤,直至所述酸碱值高于所述第一酸碱阈值。

3.根据权利要求2所述的清洗方法,其特征在于,所述向所述清洗介质中添加与所述酸碱值对应剂量的碱性清洗剂包括:

当所述清洗介质的酸碱值低于预设第二阈值时,添加第一剂量的碱性清洗剂;

当所述清洗介质的酸碱值高于预设第二阈值,低于预设第一阈值时,添加第二剂量的碱性清洗剂,其中,所述第一剂量大于所述第二剂量。

4.根据权利要求2所述的清洗方法,其特征在于,所述向所述清洗介质中添加与所述酸碱值对应剂量的碱性清洗剂包括:

根据所述清洗介质的酸碱值,每次添加相同剂量的碱性清洗剂。

5.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,所述使用调整酸碱值后的清洗介质对所述锅具进行清洗包括:

检测清洗过程中清洗介质的酸碱值;

在所述清洗介质的酸碱值超出预设范围的情况下,添加与所述酸碱值对应剂量的碱性清洗剂,

经过预设第二时长后,重新检测清洗介质的酸碱值;

在重新检测到的酸碱值超出预设范围的情况下,重复添加所述碱性清洗剂和重新检测酸碱值的步骤,直至检测的所述清洗介质的酸碱值在预设范围以内。

6.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,所述确定所述清洗设备内的待清洗物品包括具有涂层的锅具包括:

获取所述待清洗物品的图像数据,根据所述图像数据确定所述待清洗物品为有涂层的锅具。

7.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,所述确定所述清洗设备内的待清洗物品包括具有涂层的锅具还包括:

接收用户发送的指令,根据所述指令确定待清洗物品为有涂层的锅具。

8.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,所述检测用于清洗所述锅具的清洗介质的酸碱值之前还包括:

用不含碱性清洗剂的清洗介质冲洗所述有涂层的锅具预设第三时长。

9.一种处理器,其特征在于,被配置成执行根据权利要求1至8中任意一项所述的清洗方法。

10.一种清洗装置,应用于清洗设备,其特征在于,所述清洗装置包括:

酸碱值检测模块,被配置成检测用于清洗所述清洗设备内的待清洗物品的清洗介质的酸碱值;以及

根据权利要求9所述的处理器。

11.根据权利要求10所述的清洗装置,其特征在于,还包括:

图像采集设备,被配置成对所述清洗设备内进行拍照,以获取所述待清洗物品的图像数据。

12.一种清洗设备,其特征在于,包括根据权利要求10或11所述的清洗装置。

13.根据权利要求12所述的清洗设备,其特征在于,所述清洗设备包括洗碗机。

14.一种存储介质,所述存储介质上存储有指令,其特征在于,所述指令用于使得机器执行根据权利要求1至8任一项所述的清洗方法。

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