[发明专利]一种电镀液净化设备及其净化新工艺

权利要求书

1.一种电镀液净化设备，其特征在于，包括储液槽、第一液泵、交换槽、第二液泵、沉淀槽和第三液泵，所述储液槽的下部设有第一出液口，所述交换槽的上部设有第一进料口，所述第一出液口通过第一液泵与第一进料口相连通，所述交换槽的下部设有第二出液口，所述沉淀槽的上部设有第二进料口和液碱进料口，所述第二出液口通过第二液泵与第二进料口相连通，所述交换槽内设有交换树脂用于对电镀液除杂，所述沉淀槽的下部设有斜隔板，所述斜隔板的低端设有连通沉淀槽上部和下部的出料口，所述沉淀槽内位于斜隔板的上方设有搅拌机构，所述沉淀槽侧壁上位于斜隔板的下方设有第三出液口，所述第三出液口与第三液泵相连通。

2.根据权利要求1所述的电镀液净化设备，其特征在于，所述交换槽内位于第一进料口处设有液体分布器，所述液体分布器位于交换树脂的上方。

3.根据权利要求1所述的电镀液净化设备，其特征在于，所述交换槽的底部设有支撑层，所述交换树脂设置于支撑层上，所述支撑层包括托板、以及设置于托板下端的尼龙布，所述托板上设有竖直贯穿其本体的第一通孔。

4.根据权利要求1所述的电镀液净化设备，其特征在于，所述搅拌机构包括旋转电机、转轴和叶片，多个所述叶片对称的设置于转轴上，且位于斜隔板的上方；所述叶片包括杆体部和尖头部，所述尖头部成型于杆体部的一侧，所述杆体部的上下两端面上均设有导流块，所述导流块水平截面为等腰三角形，且其顶点位于靠近尖头部一侧。

5.根据权利要求1所述的电镀液净化设备，其特征在于，所述出料口的下端设有出料斗，所述出料斗的下端设有向下延伸至沉淀槽底部的出料管；所述出料管为光管。

6.根据权利要求5所述的电镀液净化设备，其特征在于，所述沉淀槽内位于斜隔板的下方设有挡料板，所述挡料板上呈矩阵状的设有第二通孔，所述出料管穿过挡料板上的过孔后延伸至挡料板的下方。

7.根据权利要求6所述的电镀液净化设备，其特征在于，所述沉淀槽侧壁上位于挡料板的下方设有渣料出口。

8.根据权利要求1所述的电镀液净化设备，其特征在于，所述交换槽和沉淀槽上均设有视窗。

9.一种电镀液净化新工艺，其特征在于，使用权利要求1至8任意一项所述的电镀液净化设备，包括如下步骤，

S1)将电镀液加入储液槽，静置2-10h；

S2)通过第一液泵将静置后的电镀液加入交换槽，通过交换树脂去除电镀液中的杂质；

S3)通过第二液泵将除杂液加入沉淀槽内，并加入液碱，通过搅拌机构搅拌混匀，并通过隔板上的出料口下料，进行沉淀，静置5-10h；

S4)通过第三液泵抽取沉淀液，完成电镀液净化。

10.根据权利要求9所述的电镀液净化新工艺，其特征在于，S3中液碱为NaOH、KOH或Ba(OH)₂中的一种。