[发明专利]多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线

权利要求书

1.一种多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，包括：

第一镀膜生产线，适于对载具上的第一基材镀膜；

第二镀膜生产线，适于对所述载具上的第一基材二次镀膜加厚，或者对所述载具上的第二基材镀膜，所述第二镀膜生产线与所述第一镀膜生产线平行布置，所述第一基材和第二基材设在所述载具上相背对的两个面上；

衔接设备，所述衔接设备包括衔接真空箱及设在衔接真空箱内的旋转平移机构，所述衔接真空箱衔接在所述第一镀膜生产线的末端和所述第二镀膜生产线的起始端之间，所述旋转平移机构设在衔接真空箱内且可驱动所述载具平移进入所述第二镀膜生产线的起始端，或者驱动所述载具旋转180°进入至所述第二镀膜生产线的起始端；

当所述载具平移进入至所述第二镀膜生产线的起始端时，通过所述第二镀膜生产线对所述载具上的第一基材二次镀膜加厚，当所述载具旋转180°进入至所述第二镀膜生产线的起始端时，通过所述第二镀膜生产线对所述载具上的第二基材镀膜。

2.根据权利要求1所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，所述第一镀膜生产线和第二镀膜生产线中的每一个均包括：

第一镀膜单元，所述第一镀膜单元包括第一真空箱、第一镀膜机组及第二镀膜机组，所述第一真空箱包括第一真空室及第二真空室，所述第二真空室与所述第一真空室相连通；所述第一镀膜机组组配置在所述第一真空室内，用以在进入至所述第一镀膜真空室内的基材上镀设打底层；所述第二镀膜机组配置在所述第二真空室内，用以在所述打底层上镀设第一光学增亮层；

第二镀膜单元，所述第二镀膜单元包括第二真空箱及第三镀膜机组，所述第二真空箱与所述第一真空箱的所述第二真空室连通，所述第三镀膜机组配置在所述第二真空箱内，用以在所述第一光学增亮层镀设第二光学增亮层，所述第二光学增亮层的折射率不同；

第三镀膜单元，所述第三镀膜单元包括第三真空箱及第四镀膜机组，所述第三真空箱包括第三真空室，所述第四镀膜机组配置在所述第三真空室内，用以在所述第二光学增亮层上镀设非导电金属增亮层以及在所述非导电金属增亮层上镀设保护层；

气氛隔离箱，所述气氛隔离箱连接在所述第二真空箱和第三真空箱之间，且所述气氛隔离箱与所述第二真空箱之间具有可启闭的第一隔离门，所述气氛隔离箱与所述第三镀膜真空箱之间具有可启闭的第二隔离门；

其中，所述第一镀膜生产线中的所述第一镀膜单元、第二镀膜单元、气氛隔离箱及第三镀膜单元沿第一方向依次布置，所述第二镀膜生产线中的所述第一镀膜单元、第二镀膜单元、气氛隔离箱及第三镀膜单元沿第二方向依次布置，所述第二方向与所述第一方向互为反方向；所述衔接真空箱连接在所述第一镀膜生产线的所述第三真空箱和第二镀膜生产线的第一真空箱之间。

3.根据权利要求2所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，还包括：

进料真空箱，所述进料真空箱的入口设有可启闭的第三隔离门；

进料缓冲箱，所述进料缓冲箱的入口与所述进料真空箱的出口连通，且所述进料缓冲箱的入口与所述进料真空箱的出口之间设有可启闭的第四隔离门，所述进料缓冲箱的出口与所述第一镀膜生产线的所述第一真空箱连通，且所述进料缓冲箱的出口与所述第一镀膜生产线的所述第一真空箱之间设有可启闭的第五隔离门。

4.根据权利要求3所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，还包括：

出料真空箱，所述出料真空箱的出口设有可启闭的第六隔离门；

出料缓冲箱，所述出料缓冲箱的出口与所述出料真空箱的入口连通，且所述出料缓冲箱的出口与所述出料真空箱的入口之间设有可启闭的第七隔离门，所述出料缓冲箱的入口与所述第二镀膜生产线的所述第三真空箱连通，且所述出料缓冲箱的入口与所述第二镀膜生产线的所述第三真空箱之间设有可启闭的第八隔离门。