[发明专利]一种高性能烧结钕铁硼的制备方法在审
| 申请号： | 202011638801.2 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112820529A | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 胡小杰;吴小洁;张洪伟;倪浩瀚;曲喜嘉 | 申请（专利权）人： | 宁波松科磁材有限公司 |
| 主分类号： | H01F41/02 | 分类号： | H01F41/02;H01F41/18;H01F1/057 |
| 代理公司： | 杭州裕阳联合专利代理有限公司 33289 | 代理人： | 金方玮 |
| 地址： | 315568 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 性能 烧结 钕铁硼 制备 方法 | ||
1.一种高性能烧结钕铁硼的制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
一：制备低熔点合金靶材；
二：在重稀土的金属单质溅射靶材之间，加入一块或多块低熔点合金靶材；
三：使用不同厚度烧结钕铁硼工件，采用恒电流模式进行双面镀膜；
四：当钕铁硼工件穿越靶材溅射区时，在已经附着于工件表面的重稀土金属膜上通过磁控溅射形成一层低熔点合金膜；
五：之后继续溅射重稀土金属膜，形成多层多种金属膜结构或多种固溶体金属膜结构；
六：将镀膜好的工件进行高温若干小时热处理，然后低温处理后制得。
2.根据权利要求1所述的一种高性能烧结钕铁硼的制备方法，其特征在于，步骤一中低熔点合金靶材通过Cu、Al按照Cu70Al30的原子比例制备CuAl合金靶材，溅射后在工件表面形成多层多种金属膜结构。
3.根据权利要求1所述的一种高性能烧结钕铁硼的制备方法，其特征在于，步骤一中低熔点合金靶材通过Tb、Cu、Al按照Tb70与CuAl30的原子比例制备Tb-Cu-Al合金靶材，溅射后在工件表面形成多种固溶体金属膜结构。
4.根据权利要求1所述的一种高性能烧结钕铁硼的制备方法，其特征在于，步骤六中高温处理的温度为720-880℃。
5.根据权利要求1所述的一种高性能烧结钕铁硼的制备方法，其特征在于，步骤六中高温处理的时间为6-10小时。
6.根据权利要求1所述的一种高性能烧结钕铁硼的制备方法，其特征在于，步骤六中低温处理的温度为400-480℃。
7.根据权利要求1所述的一种高性能烧结钕铁硼的制备方法，其特征在于，步骤六中低温处理的时间为3-6小时。
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