[发明专利]盖板、显示面板以及盖板的制作方法有效
申请号: | 202011640113.X | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN112785926B | 公开(公告)日: | 2023-04-14 |
发明(设计)人: | 顾跃凤;宁春丽 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司 |
主分类号: | G09F9/30 | 分类号: | G09F9/30;G02B1/11;G02B1/115 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
地址: | 200120 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 盖板 显示 面板 以及 制作方法 | ||
1.一种盖板,用于显示面板,其特征在于,包括:
基底,在自身厚度方向上具有相背的入光面和出光面;
至少一个减反射薄膜,设置于所述入光面和出光面中的至少一者,所述减反射薄膜具有第一折射率膜层和第二折射率膜层,所述第一折射率膜层折射率大于所述第二折射率膜层的折射率,且所述第一折射率膜层和所述第二折射率膜层交替层叠于所述入光面和/或所述出光面,所述基底为弯曲基底,多个所述减反射薄膜层叠设置于所述出光面;
其中,所述出光面为凹曲面,所述入光面为凸曲面,各所述减反射薄膜中,所述减反射薄膜的厚度方向上、所述第一折射率膜层的折射率与所述第二折射率膜层的折射率之间的差值,在与所述出光面的弯曲轨迹相平行的第一方向上,自所述盖板的中心区域至边缘区域呈递增分布;
或者,所述出光面为凸曲面,所述入光面为凹曲面,各所述减反射薄膜中,所述减反射薄膜的厚度方向上、所述第一折射率膜层的折射率与所述第二折射率膜层的折射率之间的差值,在与所述出光面的弯曲轨迹相平行的第二方向上,自所述盖板的中心区域至边缘区域呈递减分布。
2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述出光面为凹曲面,所述入光面为凸曲面,各所述减反射薄膜中,在所述第一方向上,所述第一折射率膜层的折射率自所述盖板的中心区域至边缘区域呈递增分布,所述第二折射率膜层的折射率在与所述出光面平行的曲面内各处相同。
3.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述出光面为凹曲面,所述入光面为凸曲面,各所述减反射薄膜中,在所述第一方向上,所述第二折射率膜层的折射率自所述盖板的中心区域至边缘区域呈递减分布,所述第一折射率膜层的折射率在与所述出光面平行的曲面内各处相同。
4.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述出光面为凹曲面,所述入光面为凸曲面,各所述减反射薄膜中,所述第一折射率膜层的折射率在与所述出光面平行的曲面内各处相同,所述第二折射率膜层具有SiOxNy材料,通过调节所述SiOxNy材料中的氮氧比,使得所述第二折射率膜层的折射率在所述第一方向上,自所述盖板的中心区域至边缘区域呈递减分布;或者,
各所述减反射薄膜中,所述第二折射率膜层的折射率在与所述出光面平行的曲面内各处相同,所述第一折射率膜层具有SiOxNy材料,通过调节所述SiOxNy材料中的氮氧比,使得所述第一折射率膜层的折射率在所述第一方向上,自所述盖板的中心区域至边缘区域呈递增分布。
5.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,
所述出光面为凸曲面,所述入光面为凹曲面,各所述减反射薄膜中,在所述第二方向上,所述第一折射率膜层的折射率自所述盖板的中心区域至边缘区域呈递减分布,所述第二折射率膜层的折射率在与所述出光面平行的曲面内各处相同。
6.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述出光面为凸曲面,所述入光面为凹曲面,各所述减反射薄膜中,在所述第二方向上,所述第二折射率膜层的折射率自所述盖板的中心区域至边缘区域呈递增分布,所述第一折射率膜层的折射率在与所述出光面平行的曲面内各处相同。
7.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,在所述盖板的出光方向上,两相邻所述减反射薄膜中,靠近所述出光面的所述减反射薄膜的等效折射率高于远离所述出光面的所述减反射薄膜的等效折射率。
8.根据权利要求7所述的盖板,其特征在于,
沿所述盖板的出光方向,各所述减反射薄膜对应第二折射率膜层的折射率递减,且两相邻所述减反射薄膜中、远离所述出光面的所述减反射薄膜的第一折射率膜层的折射率高于靠近所述出光面的所述减反射薄膜的第二折射率膜层的折射率。
9.根据权利要求1任一项所述的盖板,其特征在于,所述第一折射率膜层的折射率的取值范围是1.5至4,所述第二折射率膜层的折射率的取值范围是1至1.5。
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