[发明专利]一种制备碳化硅粉料的装置及方法有效

专利信息
申请号: 202011641582.3 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112830492B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 热尼亚;靳婉琪;王超 申请(专利权)人: 山东天岳先进科技股份有限公司
主分类号: C01B32/984 分类号: C01B32/984
代理公司: 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 代理人: 冯妙娜
地址: 250118 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 碳化硅 装置 方法
【说明书】:

本申请公开了一种制备碳化硅粉料的装置及方法,该装置包括:炉体,炉体内部设置隔板,隔板关闭时,将炉体内部分隔为两部分;隔板打开时,炉体内部连通;电极,电极的表面至少部分覆盖碳源原料;坩埚,坩埚置于炉体内部;坩埚与电极发生相对位移,以使得电极能够进入或远离坩埚内。本申请通过在炉体内设置隔板,在硅源原料熔化过程中,通过隔板将炉体内硅源原料和碳化原料隔开,避免加热时硅液挥发而在碳化原料处结晶,以影响粉料的生长,提高了粉料生长的质量。该方法通过控制隔板的打开或关闭,可避免硅源原料熔化过程中,硅液挥发而在碳化原料处结晶,使得到的粉料的氮杂质含量和其它杂质含量低,可用于高纯碳化硅晶体的制备。

技术领域

本申请涉及一种制备碳化硅粉料的装置及方法,属于半导体材料制备的技术领域。

背景技术

作为可大规模工业化生产的第三代半导体材料,市场对碳化硅单晶的要求日益增高。为缩短碳化硅单晶的生长时间、降低缺陷率,人们对于生长碳化硅晶棒用的碳化硅粉料的要求也随之升高。除了碳化硅粉料的杂质含量,对其晶粒结构、粒度、堆积密度及产率等也均有要求。

传统工艺一般采用高温自蔓延反应或CVD法,其所得的碳化硅粉料的粒度小、堆积密度低,在PVT法生长碳化硅单晶的过程中生长效率低且易造成缺陷。目前可采用液相法合成碳化硅粉体,通过加热的方式将硅在坩埚中融化,形成硅液,再将头部贴有籽晶的石墨轴伸入到溶液中进行生长。现有的装置及方法中,熔融状态下的硅出现挥发现象,硅蒸汽在石墨轴处结晶,影响粉体生长的质量。

发明内容

为了解决上述问题,本申请提供了一种碳化硅粉料及其制备方法。该方法利用含稀土元素物质,首先制得稀土元素的硅化物,再将稀土元素的硅化物与高纯硅碳粉进行合成,使得稀土元素均匀掺杂碳化硅粉料;利用该碳化硅粉料生长晶体,生长过程中碳化硅粉料中的稀土元素会随着粉料的升华被逐步释放,能有效抑制多型的产生。

根据本申请的一个方面,提供了一种制备碳化硅粉料的装置,所述装置包括:

炉体,所述炉体内部设置隔板,所述隔板关闭时,将炉体内部分隔为两部分;所述隔板打开时,所述炉体内部连通;

电极,所述电极的表面至少部分覆盖碳源原料,碳源原料位于炉体内部;

坩埚,所述坩埚置于炉体内部,所述坩埚内用于放置硅源原料;所述隔板关闭时,坩埚和电极分别位于所述隔板的两侧;所述坩埚与电极发生相对位移,以使得电极能够进入或远离坩埚内。

进一步的,所述隔板沿炉体的径向延伸,所述隔板的侧壁与炉体的内侧壁相配合;

优选的,所述隔板为水冷隔板,所述水冷隔板具有水冷管道;

优选的,所述装置还包括控制隔板打开或关闭的控制机构;

优选的,所述控制机构包括转轴,所述转轴一端与隔板连接,另一端穿过炉体侧壁延伸到炉体外。

进一步的,所述炉体外侧设置有加热装置,所述加热装置包括第一加热装置和第二加热装置,第一加热装置对炉体内上部进行加热,第二加热装置对炉体内下部进行加热;

优选的,所述加热装置选自电磁感应线圈或电阻丝;

优选的,所述加热装置为电阻丝。

进一步的,所述坩埚连接升降装置,所述升降装置用于控制坩埚上下移动;

优选的,所述升降装置包括支柱及由丝杠传动机构驱动的升降台,支柱的一端固定在坩埚的底部,另一端依次穿过炉体与升降台连接。

进一步的,所述电极包括固定件和碳源,碳源固定在固定件的底端,固定件与外部电源连接;优选的,所述固定件选自金属电极或石墨电极;优选的,所述炉体顶部设置有炉盖,所述电极穿过炉盖上的通孔伸入到炉体内部。

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