[发明专利]一种潜在指纹显现悬浮剂及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种潜在指纹显现悬浮剂，其特征在于，包括AIE材料、纳米颗粒、表面活性剂和去离子水。

2.根据权利要求1所述的潜在指纹显现悬浮剂，其特征在于，所述AIE材料包含如下结构中的至少一种：

上述结构式中，R₁，R₂，R₃，R₄，R₅，R₆各自独立地选自氢、卤素、羰基、酰胺基、磷氧基、取代或未取代的C3-C30氮杂芳基、取代或未取代的C6-C30含氰基芳基、取代或未取代的C3-C30含氰基杂芳基、取代或未取代的C6-C30含卤素芳基、取代或未取代的C3-C30含卤素杂芳基、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C2-C20烯基、取代或未取代的C6-C30芳基、取代或未取代的C3-C30杂芳基中的任意一种；

所述的纳米颗粒包括二硫化钼、炭黑、碳纳米管、石墨烯、二氧化硅、二氧化钛、滑石粉的至少一种；

所述的表面活性剂包括阳离子型表面活性剂、阴离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的潜在指纹显现悬浮剂，其特征在于，所述阳离子表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵、十四烷基三甲基溴化铵、十二烷基三甲基溴化铵；所述阴离子表面活性剂为十二烷基磺酸钠、十四烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠，所述非离子型表面活性剂为月桂酸酯、硬脂酸酯、油酸酯。

4.根据权利要求1所述的潜在指纹显现悬浮剂，其特征在于，所述AIE材料、纳米颗粒、表面活性剂和去离子水的重量比为(10-100)：(1000-2000)：1：(10000-50000)。

5.权利要求1-4任一项所述的潜在指纹显现悬浮剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤，

配制表面活性剂溶液，依次加入纳米颗粒和AIE材料，将其均匀分散到表面活性剂溶液中。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述分散利用超声和/或震荡和/或磁力搅拌的方式。

7.权利要求1-4任一项所述的潜在指纹显现悬浮剂的应用，其特征在于，用于潜在指纹显现，包括以下步骤：

(1)将潜在指纹显现悬浮剂喷涂或者滴涂在潜在指纹所在客体表面，潜在指纹显现悬浮剂将潜指纹所在客体表面全部覆盖；

(2)直接用水冲掉多余的未被吸附的潜在指纹显现悬浮剂；

(3)日光下可直接看到清晰的潜在指纹纹路，用光源照射客体表面，也可看到清晰的潜在指纹纹路。

8.根据权利要求7所述的潜在指纹显现悬浮剂的应用，其特征在于，所述光源为紫外光源，所述紫外光源的波长范围为250-400nm。

9.根据权利要求7所述的潜在指纹显现悬浮剂的应用，其特征在于，所述客体为表面粗糙或表面光滑的渗透性和非渗透性材料。

10.根据权利要求9所述的潜在指纹显现悬浮剂的应用，其特征在于，所述客体为玻璃、大理石、瓷砖、水泥、金属、木板、墙面、纸板、塑料、陶瓷、叶子、泡沫。