[发明专利]利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法

说明书

本发明实施例涉及一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，包括以下步骤：使用涂布有光刻胶且已过期的空白原材，按照常规的黄光制程进行曝光、显影、蚀刻和脱膜作业；根据光刻胶确定烘烤参数，并根据所述烘烤参数在曝光和显示两工序之间或者在显影和蚀刻两工序之间对原材进行烘烤作业。本发明实施例通过在使用已过期的空白原材制作光罩的过程中增加一道烘烤工序，而可以有效改善因空白原材上的光刻胶保护性能降低所带来的光罩针孔和线边缺口问题，无论在针孔和线边缺口的数量还是尺寸大小上，都有显著的改善，可有效减小原材报废量，降低光罩制造成本。

技术领域

本发明实施例涉及光罩制造技术领域，尤其是指一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法。

背景技术

掩膜版制造行业所用的空白(blank)原材，需先涂布光刻胶(也叫光阻、感光剂)，然后才能进行曝光制作光罩(mask)。各种光刻胶本身，都具有一定的有效期，所以，经过涂布后的blank原材也具有一定的保存期限，如苏打玻璃基板涂布AZ1500胶型，blank原材有效期为3个月左右，一旦超过有效期，光刻胶的保护性能就会下降，且随着时间的延长而加剧，这就给后续光罩制造带来了很大的隐患，尤其是针孔和线边缺口问题，会非常突出。

在实际生产中，针对上述缺陷，通常采用LCVD工艺对这些缺陷进行修补处理。但是，如果针孔和线边缺口的数量过多或尺寸过大，会大幅增加LCVD修补的工作量，牢固性也无法得到保障，且还会影响交期。而且，一旦针孔和线边缺口的数量过多或尺寸多大，采用LCVD工艺难以有效修补，只能做报废处理，直接增加光罩制造成本。

发明内容

本发明实施例要解决的技术问题在于，提供一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，能有效修复过期空白原材带来的针孔和线边缺口等缺陷。

为解决上述技术问题，本发明实施例首先采用以下技术方案：一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，包括以下步骤：

使用涂布有光刻胶且已过期的空白原材，按照常规的黄光制程进行曝光、显影、蚀刻和脱膜作业；

根据光刻胶确定烘烤参数，并根据所述烘烤参数在曝光和显示两工序之间或者在显影和蚀刻两工序之间对原材进行烘烤作业。

进一步地，所述烘烤作业的烘烤温度为110℃～130℃，烘烤时间为20min～45min。

进一步地，在曝光和显示工序之间对原材进行烘烤作业的烘烤温度为130℃，烘烤时间为20min；在显影和蚀刻工序之间对原材进行烘烤作业的烘烤温度为130℃，烘烤时间为45min。

进一步地，使用AOI检测设备扫描检查脱膜作业后获得的光罩成品的缺陷，并对检查出来的缺陷进行修复。

采用上述技术方案，本发明实施例至少具有以下有益效果：本发明实施例通过在使用已过期的空白原材按照常规的黄光制程制造光罩的过程中增加一道烘烤工序，可以是在曝光后显影前烘烤，或者在显影后蚀刻前烘烤，从而可以有效改善因空白原材上的光刻胶保护性能降低所带来的光罩针孔和线边缺口问题，无论在针孔和线边缺口的数量还是尺寸大小上，都有显著的改善，可有效减小原材报废量，降低光罩制造成本。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明作进一步详细说明。应当理解，以下的示意性实施例及说明仅用来解释本发明，并不作为对本发明的限定，而且，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。

本发明一个可选实施例提供一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，包括以下步骤：

使用涂布有光刻胶且已过期的空白原材，按照常规的黄光制程进行曝光、显影、蚀刻和脱膜作业；

根据光刻胶确定烘烤参数，并根据所述烘烤参数在曝光和显示两工序之间或者在显影和蚀刻两工序之间对原材进行烘烤作业。