[发明专利]一种基于AIE分子的潜指纹显现浸泡剂及其制备方法与应用

说明书

本发明公开了一种基于AIE分子的潜指纹显现浸泡剂及其制备方法与应用，本发明所述潜指纹显现浸泡剂包含AIE分子、表面活性剂和去离子水，将AIE分子和表面活性剂按照一定比例，均匀分散在一定重量的去离子水中，得到基于AIE分子的潜指纹显现浸泡剂。将潜指纹显现浸泡剂滴涂在客体表面或将客体浸泡到指纹显现浸泡剂中，利用疏水‑疏水作用和静电吸附原理进行显现，在紫外灯下可以清晰的看到指纹纹路。与现有的指纹显现剂相比，基于AIE分子的潜指纹显现浸泡剂显示出优异的指纹显像效果。本发明中的潜指纹显现浸泡剂，原料易得、制备工艺简单、使用操作方便、显现快速、适用范围广，具有较大的实际应用价值，可用于现场指纹检测。

技术领域

本发明属于指纹鉴定技术领域，具体涉及一种基于AIE分子的潜指纹显现浸泡剂及其制备方法与应用。

背景技术

指纹因其具有人各不同、终身不变且分布规律等特点，被广泛应用于法医刑侦领域中人体的识别和日常生活中安全检验与访问控制等。潜指纹是指手指或手掌接触物体表面而遗留的肉眼不可见的印记，常被作为侦破案件的基础，为寻找、发现和确定犯罪嫌疑人提供有力证据。目前用于基于荧光性物质的潜指纹显现的技术与方法主要有化学染色法和粉末显像法。

专利CN111320647A公开了一种硅烷桥联发光材料及其制备方法、应用和显色剂，将含有共轭发光基团的氯代物经锂化，再与氯硅烷或三氟甲磺酰硅烷反应制得硅烷桥联发光材。该硅烷桥联发光材料和乙腈，可应用于潜指纹显示领域，实现易于操作，快速且高分辨率的潜指纹可视化成像。

专利CN111333072A公开了一种荧光硅量子点及其制备方法与应用，利用还原剂和硅源化合物通过Zn离子作用在水相中合成水溶性硅量子点，该荧光硅量子点粉末指纹显现清晰，有良好的应用效果，在不同的基板表面(玻璃、铝箔纸、称量纸、木头)有良好的指纹显现性能。

但是这些方法在使用过程中，都存在着一些问题，如化学染色法在使用中常会引入大量的有机试剂，具有较强的生物毒性，直接威胁使用者的身体健康。粉末显像法对人体伤害较大，存在粉尘污染的问题，刷显过程对潜指纹有一定的破坏性。综上所述，如何在保证指纹还原精度的前提下，获得制备工艺简单、使用操作方便且生物毒性较小的潜指纹显现剂成为了当前潜指纹显现研究中亟待解决的问题。

发明内容

为了解决上述现有潜指纹显现技术中存在的问题，本发明提供了一种基于AIE分子的潜指纹显现浸泡剂及其制备方法与应用。

聚集诱导发光(AIE)分子作为一种新型的荧光分子，可以在聚集态下产生很强的荧光，如果将其通过一定的作用力附着在潜指纹纹路表面，形成聚集态，在一定波长的光线照射下，就可产生强度很高的肉眼可见的光，能够大幅提高潜指纹显现的灵敏度。借助表面性剂的增溶作用，可以避免大量使用有机试剂引起的生物毒性。基于上述原理，本发明提出了一种基于AIE分子的潜指纹显现浸泡剂及其制备方法与应用。本发明中的潜指纹显现浸泡剂，具有原料易得、制备工艺简单、使用操作方便、显现快速、适用范围广等特点，在潜指纹的显现技术领域具有极好的应用价值。

本发明采取的详细技术方案如下：

一种基于AIE分子的潜指纹显现浸泡剂，其包含：AIE分子、表面活性剂和去离子水。

优选的，所述AIE分子包含如下结构中的的至少一种：