[发明专利]硝基苯甲醇磺酸酯化合物作为增速剂在光刻胶中的应用、用于制备光刻胶的组合物在审

专利信息
申请号: 202011643470.1 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112799280A 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 孙嘉;李冰;马洁;陈昕;王文芳;董栋;张宁 申请(专利权)人: 北京科华微电子材料有限公司;北京科华丰园微电子科技有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司
主分类号: G03F7/022 分类号: G03F7/022;G03F7/023;C07C309/66;C07C309/65
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 余菲
地址: 101312 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 硝基苯 甲醇 酯化 作为 增速 光刻 中的 应用 用于 制备 组合
【权利要求书】:

1.一种硝基苯甲醇磺酸酯化合物作为增速剂在光刻胶中的应用,其特征在于,所述硝基苯甲醇磺酸酯化合物的结构式如下:

其中,R1选自氢、卤素、氰基、C1~20烷基、C1~20的烷氧基或C1~20的卤代烷基;

R2选自氢、卤素、氰基、C1~20烷基、C1~20的烷氧基或C1~20的卤代烷基;

R3选自氢、卤素、氰基、C1~20烷基、C1~20环烷基、C1~20的烷氧基、C1~20的卤代烷基、C1~20稀基或C1~20酮基;

所述光刻胶包括酚醛树脂-重氮奈醌型光刻胶和化学放大光刻胶。

2.根据权利要求1所述的硝基苯甲醇磺酸酯化合物作为增速剂在光刻胶中的应用,其特征在于,所述R1选自氢、卤素、C1~10烷基、C1~10的烷氧基或C1~10的卤代烷基;

所述R2选自氢、卤素、C1~10烷基、C1~10的烷氧基或C1~10的卤代烷基;

所述R3选自氢、卤素、C1~10烷基、C1~10环烷基、C1~10的烷氧基、C1~10的卤代烷基、C1~10稀基或C1~10酮基。

3.根据权利要求1所述的硝基苯甲醇磺酸酯化合物作为增速剂在光刻胶中的应用,其特征在于,所述R1选自氢或卤素,所述R2选自氢、卤素或C1~10烷基,所述R3选自C1~10的氟代烷基或C1~10酮基。

4.根据权利要求1所述的硝基苯甲醇磺酸酯化合物作为增速剂在光刻胶中的应用,其特征在于,所述硝基苯甲醇磺酸酯化合物为4-硝基苯甲醇三氟甲基磺酸酯、4-硝基苯甲醇全氟丁基磺酸酯、3-氯4-硝基苯甲醇全氟丁基磺酸酯或4-氟-3-硝基苯甲酸樟脑磺酸酯。

5.根据权利要求1~4任一项所述的硝基苯甲醇磺酸酯化合物作为增速剂在光刻胶中的应用,其特征在于,所述硝基苯甲醇磺酸酯化合物在光刻胶中的添加量为所述光刻胶的固体物质的0.1~10wt%;

可选地,所述硝基苯甲醇磺酸酯化合物在光刻胶中的添加量为所述光刻胶的固体物质的0.1~5wt%。

6.一种用于制备光刻胶的组合物,其特征在于,所述用于制备光刻胶的组合物包括第一固体物质和溶剂,所述第一固体物质包括酚醛树脂、感光剂、酸淬灭剂和增速剂;

所述增速剂的结构式如下:

其中,R1选自氢、卤素、氰基、C1~20烷基、C1~20的烷氧基或C1~20的卤代烷基;

R2选自氢、卤素、氰基、C1~20烷基、C1~20的烷氧基或C1~20的卤代烷基;

R3选自氢、卤素、氰基、C1~20烷基、C1~20环烷基、C1~20的烷氧基、C1~20的卤代烷基或C1~20稀基。

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