[发明专利]一种单晶硅刻蚀制绒添加剂及其应用有效

专利信息
申请号: 202011643702.3 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112813502B 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 张小飞 申请(专利权)人: 常州高特新材料股份有限公司
主分类号: C30B33/10 分类号: C30B33/10;C30B29/06;H01L31/18
代理公司: 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 代理人: 王志慧
地址: 213000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 单晶硅 刻蚀 添加剂 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种单晶硅刻蚀制绒液,其特征在于:所述制绒液按质量百分比计,由以下成分组成:

分子量10~13万的魔芋葡甘露聚糖:0.5~2.0%;

表面活性剂:3~5‰;

抗坏血酸:3~5‰;

氢氧化钠:5~10‰;

炔二醇:2~5‰;

磺酸钠:0.5~2.0%;

聚丙烯酰胺絮凝剂:0.3~0.5‰;

其余为去离子水;

将上述成分混合后搅拌均匀,得到制绒液;

所述表面活性剂为全氟辛基聚氧乙烯醚、全氟辛烷磺酸盐、全氟烷基聚氧乙烯醚和全氟烷基羧酸聚乙二醇酯中的一种或多种混合。

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