[实用新型]一种阵列式液滴晶体制备装置

说明书

本实用新型公开了一种阵列式液滴晶体制备装置。阵列式晶体制备装置包括操作箱、阵列液滴制备模块和晶体生长基底模块；该方法通过调节阵列液滴体积精确获得结晶晶体质量，控制温度湿度精准调控获得的目标晶型或晶习，操作快速简单、生产过程经济价廉、绿色环保。整套装置可广泛用于各类晶体(纳米、原子、分子)生长制备，尤其是药物制备的生产过程。

技术领域

本实用新型涉及各类晶体的高效、经济生长制备装置。

背景技术

现阶段晶体的制备方法主要有熔体生长法(提拉法、坩埚下降法、区熔法、焰熔法)，溶液生长法(水溶液法、水热法、助熔剂法)，气相沉积法，固相反应法等。其中溶液生长法以水热法为例，该方法对设备要求极高、需要优质晶籽并且其生长速率慢周期长；气相沉积法可形成晶体类别不够广，并且难以控制产品质量，操作以及工作装置复杂；固相反应方法反应速度慢，并且通常要求在高温(反应条件苛刻)下进行。

晶体生长极少数采用溶剂挥发的方法，工厂中常采用喷雾干燥法，喷雾干燥法往往要采用超高温使原料液形成喷雾，能量消耗大。另外，在部分药物企业的生产制备中，现存的制备方式为将原料液形成喷雾蒸发溶液，从而形成目标晶体，再将获得的目标晶体与辅料相混合制备药物，该方法存在原料难以均匀混合，所得药物中目标晶体分布不均匀等问题，从而在质控方面存在困难。

实用新型内容

为了克服现有的晶体制备装置操作复杂、产品质量的不可控性以及反应速度缓慢生长周期长的不足,本实用新型提供一种阵列式液滴晶体制备装置，该装置不仅能控制产品的质量，还能通过控制温湿度来达到控制晶体晶习与晶型，整个生产工艺生产周期短、操作简便、经济价廉并且绿色环保。

本实用新型的技术方案如下：

本实用新型的阵列式液滴晶体制备装置包括操作箱、阵列液滴制备模块、晶体生长基底模块和溶剂吸收装置；

所述的操作箱为可封闭腔体，其内部设有温湿度调控模块，所述溶剂吸收装置设置在操作箱上；所述的操作箱内设有多层晶体生长区域，晶体生长区域之间以隔板相隔，晶体生长区域之间的气体相通；

所述的晶体生长基底模块上表面为光滑平面且表面经过疏水处理；晶体生长基底模块可水平放置在晶体生长区域内，并可从晶体生长区域取出。

所述的阵列液滴制备模块包括若干结构相同呈阵列布置的滴液管，阵列液滴制备模块用于向晶体生长基底板滴液；滴液时，阵列液滴制备模块位于晶体生长基底模块正上方。滴液管的数量和排布方式可根据需要进行改变。

作为本实用新型的优选方案，所述的操作箱侧边设有基底进出门，基底进出门与操作箱箱体之间设有密封条。

作为本实用新型的优选方案，所述的溶剂吸收模块包括筒体和与筒体相连的吸气泵，所述的筒体内填充有固体吸收剂(如：活性炭)，筒体与操作箱内的空腔相通。

作为本实用新型的优选方案，所述的温湿度调控模块包括控制器、加热器、冷风机、加湿器和温湿度传感器，所述的温湿度传感器与控制器相连用于传输温湿度检测数据，所述的控制器与加热器、冷风机、加湿器电连接。

作为本实用新型的优选方案，所述晶体生长基底模块的疏水层采用等离子体技术进行疏水处理而得。

作为本实用新型的优选方案，所述的滴液管内设有活塞，滴液管底部设有滴液口；所述的阵列液滴制备模块还包括至少一个步进电机，所述滴液管的活塞通过连接件与步进电机相连；所述阵列液滴制备模块内的活塞同步运动。