[实用新型]一种消影膜有效
| 申请号： | 202020010526.9 | 申请日： | 2020-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN211942431U | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 葛建峰;徐金龙;孔祥永;耿龙飞 | 申请（专利权）人： | 湖南中天碧水膜科技有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;B32B27/36;B32B33/00;G02B1/14;G02B1/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 417000 湖南省娄底市娄星*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 消影膜 | ||
1.一种消影膜，其特征在于，包括COP基材层、所述COP基材层包含第一光学面以及第二光学面，所述第一光学面上设置有第一硬化层，第一光学调整层，所述第二光学面上设置有第二硬化层，第二光学调整层，所述第一光学调整层与所述第二光学调整层的折射率相同。
2.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述COP基材层的厚度范围为10-200μm。
3.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述COP基材的收缩率TD向小于0.1％，MD向小于0.1％。
4.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述第一硬化层的折射率范围为1.45-1.55，所述第一硬化层的厚度范围为0.5-3.0μm。
5.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述第二硬化层的折射率范围为1.45-1.55，所述第二硬化层的厚度范围为0.5-3.0μm。
6.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述第一光学调整层的厚度范围为10-200nm。
7.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述第二光学调整层的厚度范围为10-200nm。
8.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述第一光学调整层及所述第二光学调整层远离基材层的一侧分别设置有保护膜。
9.根据权利要求8所述的消影膜，其特征在于，所述保护膜的厚度等于所述COP基材层的厚度。
10.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述第一光学调整层及所述第二光学调整层折射率范围都为1.59-1.80。
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