[实用新型]一种反应熔渗炉有效

专利信息
申请号: 202020014016.9 申请日: 2020-01-03
公开(公告)号: CN211226941U 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 杨旸;赵春 申请(专利权)人: 运城学院
主分类号: C04B41/88 分类号: C04B41/88
代理公司: 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 代理人: 吴林
地址: 044000 山西*** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 一种 反应 熔渗炉
【权利要求书】:

1.一种反应熔渗炉,其特征在于:包括壳体(100)、端盖(200)、电机(300)和加热器(400),所述壳体(100)的底部中央位置固定安装有出料口(130),所述出料口(130)的底部螺接有控制阀门(140),所述壳体(100)的前侧壁中部开设有观察窗(120),所述壳体(100)的顶部固定安装所述端盖(200),所述端盖(200)的顶部左侧固定焊接有入料管(210),所述端盖(200)的顶部右侧固定安装有真空泵(220),所述真空泵(220)与嗯嗯端盖(200)的内部相贯通,所述端盖(200)的顶部中央位置固定安装所述电机(300),所述电机(300)的底部转动连接有电机轴(310),所述电机轴(310)的底部固定安装有搅拌叶片(320),所述壳体(100)的内部顶部中央位置固定焊接有连接座(330),所述连接座(330)的顶部固定安装所述搅拌叶片(320),所述搅拌叶片(320)与所述连接座(330)之间的连接处卡接有轴承,所述壳体(100)的内壁四周固定安装有加热器(400),所述真空泵(220)、所述加热器(400)和所述电机(300)均电性连接有PLC控制器。

2.根据权利要求1所述的一种反应熔渗炉,其特征在于:所述壳体(100)的底部四周均匀的安装多个支架(110),所述支架(110)的底部固定安装有防滑脚垫。

3.根据权利要求2所述的一种反应熔渗炉,其特征在于:所述支架(110)的底部为圆弧形。

4.根据权利要求1所述的一种反应熔渗炉,其特征在于:所述壳体(100)与所述端盖(200)之间的连接处卡接有密封垫。

5.根据权利要求1所述的一种反应熔渗炉,其特征在于:所述壳体(100)的侧壁贯穿连接有温度传感器(410),所述温度传感器(410)电性连接所述PLC控制器。

6.根据权利要求1所述的一种反应熔渗炉,其特征在于:所述加热器(400)为电热加热丝。

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