[实用新型]压力平衡装置有效
申请号: | 202020014400.9 | 申请日: | 2020-01-06 |
公开(公告)号: | CN211227333U | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 向洪春;陈长荣 | 申请(专利权)人: | 上海思擎企业管理合伙企业(有限合伙) |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44;C30B25/14 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200000 上海市闵*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 压力 平衡 装置 | ||
1.一种压力平衡装置,其特征在于,包括:
主路管道,包括第一进气口和第一出气口,所述第一出气口与反应腔连通;
废气管道,包括第二进气口和第二出气口;
至少一个反应气体管道,每个所述反应气体管道包括第三进气口和第三出气口,所述第三出气口分别与第一支路和第二支路连接,所述第一支路和所述主路管道连接,所述第一支路内设置有主路阀,所述第二支路和所述废气管道连接,所述第二支路内设置有旁通阀;
压力传感器,设置在所述主路管道内,用于检测所述主路管道内的压力;
压力控制器,与所述压力传感器连接,设置在所述废气管道内,用于控制所述废气管道内的压力以使得所述废气管道内的压力与所述主路管道内的压力始终保持平衡。
2.根据权利要求1所述的压力平衡装置,其特征在于,所述压力传感器设置在所述反应气体管道的上游。
3.根据权利要求1所述的压力平衡装置,其特征在于,所述压力控制器设置在所述废气管道内靠近所述第二出气口的一端,且位于所述反应气体管道的下游。
4.根据权利要求1所述的压力平衡装置,其特征在于,所述主路管道内设置有第一气体流量计,所述第一气体流量计用于控制所述主路管道内的气体流量。
5.根据权利要求4所述的压力平衡装置,其特征在于,所述第一气体流量计设置在所述主路管道内靠近所述第一进气口的一端,且位于所述压力传感器的上游。
6.根据权利要求1所述的压力平衡装置,其特征在于,所述废气管道内设置有第二气体流量计,所述第二气体流量计用于控制所述废气管道内的气体流量。
7.根据权利要求6所述的压力平衡装置,其特征在于,所述第二气体流量计设置在所述废气管道内靠近所述第二进气口的一端。
8.根据权利要求1所述的压力平衡装置,其特征在于,所述反应气体管道内设置有第三气体流量计,所述第三气体流量计用于控制所述反应气体管道内的气体流量。
9.根据权利要求8所述的压力平衡装置,其特征在于,所述第三气体流量计设置在所述反应气体管道内靠近所述第三进气口的一端。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的压力平衡装置,其特征在于,所述反应气体管道有三个。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的