[实用新型]一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统有效
申请号: | 202020035807.X | 申请日: | 2020-01-08 |
公开(公告)号: | CN211318990U | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | 张浩为;卫国;魏云飞 | 申请(专利权)人: | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人: | 奚华保 |
地址: | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 台面 激光 曝光 真空 吸附 控制系统 | ||
1.一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统,其特征在于:包括鼓风机、控制电路、电磁阀一和电磁阀二;
所述控制电路包括交流接触器、热继电器、继电器、自锁式按钮KEY1和自锁式按钮KEY2;所述交流接触器,其进电端1L1、3L2和5L3分别接三相电,其线圈A1接其进电端L2,其线圈A2接热继电器的常闭触点96脚,其常开触点13脚接24V电源,其常闭触点95脚接继电器的常开触点5脚,其常开触点98脚接24V电源;
所述热继电器,其引脚U、V、W与鼓风机的进电端相连;
所述继电器,其常开触点3脚接交流接触器的进电端L3,其7脚接地;
所述自锁式按钮KEY1和自锁式按钮KEY2串行连接后,一端接24V电源,另一端分别接继电器的8脚、电磁阀一的控制端、电磁阀二的控制端;
所述鼓风机的出气口分别与电磁阀一的进气口、电磁阀二的进气口相连,电磁阀一的出气口接曝光A台面的进气口,电磁阀二的出气口接曝光B台面的进气口。
2.根据权利要求1所述的一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统,其特征在于:所述交流接触器的常开触点97脚接报警装置。
3.根据权利要求1所述的一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统,其特征在于:所述曝光A台面和曝光B台面均包括依次设置的吸盘和吸盘垫。
4.根据权利要求1所述的一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统,其特征在于:所述鼓风机的出气口通过气路一接曝光A台面的进气口,所述电磁阀一安装在气路一上;所述鼓风机的出气口还通过气路二接曝光B台面的进气口,所述电磁阀二安装在气路二上;所述气路一通过气路转接阀一与曝光A台面的进气口相连;所述气路二通过气路转接阀二与曝光B台面的进气口相连。
5.根据权利要求1所述的一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统,其特征在于:所述交流接触器的型号为施耐德LCID32。
6.根据权利要求1所述的一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统,其特征在于:所述热继电器的型号为施耐德LRD14C。
7.根据权利要求1所述的一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统,其特征在于:所述继电器的信号为施耐德LY2N-J。
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