[实用新型]一种掩膜板、显示面板及显示装置有效
申请号: | 202020040735.8 | 申请日: | 2020-01-09 |
公开(公告)号: | CN211043942U | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 马晓旭;李治朝 | 申请(专利权)人: | 昆山龙腾光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/54 | 分类号: | G03F1/54;G02F1/133;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 215301 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种掩膜板,其特征在于,包括:
显示区掩膜部和非显示区掩膜部;所述非显示区掩膜部围绕所述显示区掩膜部;其中,所述显示区掩膜部用于对显示面板的显示区进行掩膜,所述非显示区掩膜部用于对所述显示面板的非显示区进行掩膜;
所述显示区掩膜部包括遮光部、透光部以及半透光部;所述遮光部呈网格状;所述透光部以及所述半透光部位于所述遮光部的网孔内;所述非显示区掩膜部包括多个遮光条;
所述遮光部用于对显示面板的显示区的公共电极并联金属进行掩膜;所述透光部用于对显示面板的显示区的公共电极通孔进行掩膜。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述遮光条的宽度为M1,0<M1<2μm。
3.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述遮光条沿所述显示区掩膜部的边缘连续设置。
4.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,每个所述遮光条包括多个子遮光条;多个所述子遮光条沿所述显示区掩膜部的边缘依次排列。
5.根据权利要求4所述的掩膜板,其特征在于,所述子遮光条的轮廓包括条形、V形或L形中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述遮光条到相邻所述显示区掩膜部的边界的最大距离为L1,350μm<L1<500μm。
7.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,由所述显示区掩膜部指向所述非显示区掩膜部的方向上,所述遮光条的排布密度依次增大。
8.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示区以及围绕所述显示区的非显示区;
所述显示区包括第一显示区和第二显示区;所述第二显示区围绕所述第一显示区;
还包括衬底基板、位于所述衬底基板上的驱动电路、位于所述驱动电路远离所述衬底基板一侧的公共电极、位于所述公共电极远离所述衬底基板一侧的公共电极并联金属以及位于所述公共电极并联金属远离所述衬底基板一侧的像素电极;所述公共电极设置有公共电极通孔;所述像素电极通过所述公共电极通孔与所述驱动电路电连接;
其中,所述公共电极并联金属位于所述第一显示区以及所述第二显示区。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,在非显示区指向所述第一显示区的方向上,所述第二显示区的宽度为M2,350μm<M2<500μm。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求8-9任一项所述的显示面板。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备