[实用新型]一种抗潮湿的上光膜结构有效

专利信息
申请号: 202020044166.4 申请日: 2020-01-09
公开(公告)号: CN211843474U 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 谭銮章 申请(专利权)人: 浙江绿洲胶粘制品有限公司
主分类号: B32B5/30 分类号: B32B5/30;B32B33/00;B32B7/12;B32B3/24;B32B3/30;G09F3/02;E04F13/00
代理公司: 杭州西木子知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 33325 代理人: 李开腾
地址: 313300 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 潮湿 上光 膜结构
【权利要求书】:

1.一种抗潮湿的上光膜结构,其特征在于,包括:自上而下设置的第一上光膜(1)、防水层(2)以及第二上光膜(3);

所述第一上光膜(1)开设有存纳槽(1a),所述第一上光膜(1)与防水层(2)之间设置有纳米颗粒(5),所述纳米颗粒(5)位于存纳槽(1a)的外侧,所述第二上光膜(3)与防水层(2)之间设置有干燥层(4),所述第二上光膜(3)上设置有微孔(31)。

2.根据权利要求1所述的一种抗潮湿的上光膜结构,其特征在于,所述干燥层(4)为干燥剂粉末喷洒形成。

3.根据权利要求1所述的一种抗潮湿的上光膜结构,其特征在于,所述第一上光膜(1)下表面设置有粘结层a(6)。

4.根据权利要求3所述的一种抗潮湿的上光膜结构,其特征在于,所述防水层(2)上表面设置有粘结层b(7)。

5.根据权利要求4所述的一种抗潮湿的上光膜结构,其特征在于,所述干燥层(4)粘附于所述粘结层a(6)与粘结层b(7)之间。

6.根据权利要求1所述的一种抗潮湿的上光膜结构,其特征在于,所述存纳槽(1a)为模具压制成型设置。

7.根据权利要求1所述的一种抗潮湿的上光膜结构,其特征在于,所述存纳槽(1a)为圆形。

8.根据权利要求1所述的一种抗潮湿的上光膜结构,其特征在于,所述防水层(2)下表面设置有粘结层c(8)。

9.根据权利要求8所述的一种抗潮湿的上光膜结构,其特征在于,所述第二上光膜(3)上表面设置有粘结层d(9)。

10.根据权利要求9所述的一种抗潮湿的上光膜结构,其特征在于,所述纳米颗粒(5)粘附于所述粘结层c(8)与粘结层d(9)之间。

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