[实用新型]一种蒸镀坩埚及装置有效
申请号: | 202020071029.X | 申请日: | 2020-01-14 |
公开(公告)号: | CN211522306U | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 乔小平 | 申请(专利权)人: | 福建华佳彩有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人: | 徐剑兵;张忠波 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 坩埚 装置 | ||
1.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括:坩埚本体、坩埚上盖;所述坩埚本体为具有开口的中空结构,且所述坩埚上盖设置于所述坩埚本体上;
所述坩埚上盖还包括有出料口,出料口中空且与坩埚本体内部连通,所述出料口可活动的设置于所述坩埚上盖上,出料口活动时使得出料口与坩埚上盖的夹角发生变化。
2.根据权利要求1所述一种蒸镀坩埚,其特征在于,还包括:限位装置;所述限位装置设置于所述坩埚上盖上,用于固定出料口保持出料口与坩埚上盖的夹角不变。
3.根据权利要求2所述一种蒸镀坩埚,其特征在于,所述限位装置通过磁吸方式设置于所述坩埚上盖上。
4.根据权利要求1所述一种蒸镀坩埚,其特征在于,所述出料口与坩埚上盖通过球形可活动机构相连接;
所述球形可活动机构嵌设于所述坩埚上盖上,且所述出料口贯穿设置于球形可活动机构上。
5.根据权利要求4所述一种蒸镀坩埚,其特征在于,所述球形可活动机构半径为R,所述球形可活动机构超出坩埚上盖的上、下两部分高度分别为L1、L2,且0.2R≤L1≤0.6R,0.2R≤L2≤0.6R。
6.根据权利要求1所述一种蒸镀坩埚,其特征在于,所述坩埚上盖朝一侧倾斜。
7.一种蒸镀坩埚装置,其特征在于,包括多个权利要求1至6所述蒸镀坩埚。
8.根据权利要求7所述一种蒸镀坩埚装置,其特征在于,所述一种蒸镀坩埚装置包括三个所述蒸镀坩埚;
位于中间的蒸镀坩埚的坩埚上盖与水平方向平行,位于两侧的蒸镀坩埚的坩埚上盖朝中间倾斜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建华佳彩有限公司,未经福建华佳彩有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020071029.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种具有嵌套桌面的桌子
- 下一篇:一种硬质金属表面打磨装置
- 同类专利
- 专利分类