[实用新型]一种蒸镀坩埚及装置有效

专利信息
申请号: 202020071029.X 申请日: 2020-01-14
公开(公告)号: CN211522306U 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 乔小平 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 代理人: 徐剑兵;张忠波
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 坩埚 装置
【权利要求书】:

1.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括:坩埚本体、坩埚上盖;所述坩埚本体为具有开口的中空结构,且所述坩埚上盖设置于所述坩埚本体上;

所述坩埚上盖还包括有出料口,出料口中空且与坩埚本体内部连通,所述出料口可活动的设置于所述坩埚上盖上,出料口活动时使得出料口与坩埚上盖的夹角发生变化。

2.根据权利要求1所述一种蒸镀坩埚,其特征在于,还包括:限位装置;所述限位装置设置于所述坩埚上盖上,用于固定出料口保持出料口与坩埚上盖的夹角不变。

3.根据权利要求2所述一种蒸镀坩埚,其特征在于,所述限位装置通过磁吸方式设置于所述坩埚上盖上。

4.根据权利要求1所述一种蒸镀坩埚,其特征在于,所述出料口与坩埚上盖通过球形可活动机构相连接;

所述球形可活动机构嵌设于所述坩埚上盖上,且所述出料口贯穿设置于球形可活动机构上。

5.根据权利要求4所述一种蒸镀坩埚,其特征在于,所述球形可活动机构半径为R,所述球形可活动机构超出坩埚上盖的上、下两部分高度分别为L1、L2,且0.2R≤L1≤0.6R,0.2R≤L2≤0.6R。

6.根据权利要求1所述一种蒸镀坩埚,其特征在于,所述坩埚上盖朝一侧倾斜。

7.一种蒸镀坩埚装置,其特征在于,包括多个权利要求1至6所述蒸镀坩埚。

8.根据权利要求7所述一种蒸镀坩埚装置,其特征在于,所述一种蒸镀坩埚装置包括三个所述蒸镀坩埚;

位于中间的蒸镀坩埚的坩埚上盖与水平方向平行,位于两侧的蒸镀坩埚的坩埚上盖朝中间倾斜。

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