[实用新型]一种用于提高去蜡清洗抛光的结构

权利要求书

1.一种用于提高去蜡清洗抛光的结构，其特征在于：包括清洗抛光槽本体（5），所述的清洗抛光槽本体（5）上端两侧边设有呈对称式分布的边齿架（1），两边齿架（1）间设有与清洗抛光槽本体（5）呈一体化的底齿架（3），所述的底齿架（3）与边齿架（1）间均设有过液槽（2），所述的底齿架（3）下方设有与底齿架（3）相平行且与延伸出清洗抛光槽本体（5）外的定位螺栓孔（4）；所述的边齿架（1）、底齿架（3）均包括若干呈圆弧端面结构的清洗抛光搁齿（9），两相邻的清洗抛光搁齿（9）间设有排屑槽（10）。

2.根据权利要求1所述的一种用于提高去蜡清洗抛光的结构，其特征在于：所述的排屑槽（10）下端设有与排屑槽（10）呈一体化的圆弧沟槽（11）。

3.根据权利要求1所述的一种用于提高去蜡清洗抛光的结构，其特征在于：所述的过液槽（2）呈1度～3度的倾斜角结构。

4.根据权利要求1所述的一种用于提高去蜡清洗抛光的结构，其特征在于：所述的清洗抛光槽本体（5）两侧边均设有若干呈对称式分布的侧边固定螺栓孔（6）。

5.根据权利要求4所述的一种用于提高去蜡清洗抛光的结构，其特征在于：所述的侧边固定螺栓孔（6）包括螺纹孔（7），所述的螺纹孔（7）与清洗抛光槽本体（5）侧端面间设有与螺纹孔（7）相同轴心式连通的弹簧垫圈沉孔槽（8）。