[实用新型]曝光平台和系统

说明书

本实用新型涉及一种曝光平台和系统，所述曝光平台应用于曝光系统，所述的曝光平台包括：载物台和降温通道，载物台用于放置待执行曝光工序的玻璃样品；降温通道，设置在所述载物台的底部，用于执行曝光工序时通入冷却水对所述载物台进行降温处理。本申请通过在放置玻璃样品的载物台上设置降温通道，在执行曝光工序时，若载物台被紫外线照射时环境温度高于温度阈值，则在降温通道通入冷却水给载物台降温，从而为曝光工序提供恒定的曝光温度，提升了曝光效果的同时保证了成品率。

技术领域

本实用新型涉及曝光技术领域，特别是涉及曝光平台系统。

背景技术

目前，曝光平台系统通过将曝光平台和光罩放置平台进行对位，利用紫外线照射光罩放置平台上的光罩，能够使得光罩上的图案转移至曝光台上放置的玻璃样品上。

然而，紫外线照射会使曝光平台的温度升高，过高的温度会使影响玻璃样品光刻的效果，从而导致曝光的玻璃样品的成品率低。

实用新型内容

基于此，有必要针对曝光平台温度高导致曝光成品率低的问题，提供一种曝光平台和系统。

一种曝光平台，应用于曝光系统，所述的曝光平台包括：

载物台，用于放置待执行曝光工序的玻璃样品；

降温通道，设置在所述载物台的底部，用于执行曝光工序时，通入冷却水对所述载物台进行降温处理。

在其中一个实施例中，所述的曝光平台还包括：

温度检测模块，设置于所述载物台上，用于执行曝光工序时采集所述载物台的环境温度；

温度处理模块，与所述温度检测模块和所述降温通道连接，用于当所述载物台的环境温度超过温度阈值时生成降温控制指令，所述降温指令用于控制所述降温通道通入冷却水。

在其中一个实施例中，所述载物台的环境温度为所述载物台上放置所述玻璃样品的对位区域的温度数据，所述温度检测模块包括：

多个温度传感器，均匀分布于所述对位区域上，用于采集所述对位区域内的温度数据。

在其中一个实施例中，所述曝光平台还包括：

整列开口，设置于所述载物台的边缘，用于作为参照位以使所述玻璃样品放置于所述载物台上的对位区域。

在其中一个实施例中，缩顶针的顶针平台，所述曝光平台还包括：

贯穿所述载物台的顶针通道，所述顶针通道用于执行所述曝光工序之前使所述可伸缩顶针伸出所述载物台接收所述玻璃样品的放置，还用于在所述曝光工序结束后使所述可伸缩顶针伸出所述载物台托起完成所述曝光工序的玻璃样品以待所述玻璃样品被取出。

在其中一个实施例中，所述顶针通道的数量与所述可伸缩顶针的数量相同，所述顶针通道的尺寸与所述可伸缩顶针的尺寸匹配。

在其中一个实施例中，所述曝光平台还包括：

抽真空通道，与所述载物台对应设置，用于当与外部抽真空装置连接时抽离所述载物台放置所述玻璃样品一侧表面的气体，以使所述载物台吸附所述玻璃样品。

在其中一个实施例中，所述抽真空通道包括：

第一抽真空通道，用于对所述载物台表面的第一区域进行抽真空处理；

第二抽真空通道，用于对所述载物台表面的第二区域进行抽真空处理，所述第二区域处于所述第一区域的外围。

在其中一个实施例中，所述曝光平台还包括：

玻璃检测装置，与所述载物台连接，用于检测所述载物台上是否放置有所述玻璃样品。

一种曝光系统，包括：