[实用新型]一种自动移印主机装置

权利要求书

1.一种自动移印主机装置，其特征在于，包括：物料自动翻转清洁装置、高精度移印装置、移印下料检测装置，所述高精度移印装置位于自动翻转清洁装置和移印下料检测装置之间；

所述物料自动翻转清洁装置包括：翻转机构、旋转供料平台机构以及除尘机构，所述翻转机构位于旋转供料平台机构右侧，所述除尘机构位于旋转供料平台机构上方；

所述高精度移印装置包括：一个移印上下料搬臂、若干印刷平台、若干CCD移印定位机构、若干移印机构以及若干吹热风固化机构，所述移印上下料搬臂设于各印刷平台前侧，各所述印刷平台上方分别设置有一个CCD移印定位机构，每一所述印刷平台后侧分别与一移印机构对接，各所述印刷平台和各所述移印机构的旁侧分别设置有一个吹热风固化机构；

所述移印下料检测装置包括：搬料机构、检测平台、AOI检测CCD、移印NG抛料皮带线、吹热风固化机构、下料全景定位CCD以及下料机构，所述搬料机构位于检测平台前侧，所述AOI检测机构以及下料全景定位CCD分别位于检测平台上方，所述下料全景定位CCD位于AOI检测机构的左侧，所述移印NG抛料皮带线位于检测平台后侧，所述吹热风固化机构位于检测平台左侧，所述下料机构设于吹热风固化机构左侧。

2.根据权利要求1所述的自动移印主机装置，其特征在于，所述翻转机构包括：翻转气缸和真空吸附板，所述真空吸附板与翻转气缸连接；

所述旋转供料平台机构包括：X方向直线模组、旋转气缸、第一真空吸附平台，所述旋转气缸设于X方向直线模组上，所述第一真空吸附平台设于旋转气缸上；

所述除尘机构包括：粘尘辊组件和等离子清洁机，所述粘尘辊组件与等离子清洁机并排设置，所述粘尘辊组件位于等离子清洁机右侧。

3.根据权利要求2所述的自动移印主机装置，其特征在于，所述粘尘辊组件包括移动轴承、粘纸滚筒以及轴承支架，所述轴承支架上设置有倾斜开口槽，所述移动轴承两端分别设于倾斜开口槽中，所述粘纸滚筒活动套于移动轴承上。

4.根据权利要求1所述的自动移印主机装置，其特征在于，所述移印上下料搬臂包括：上料移动模组、上料模块、下料移动模组、下料模块，所述上料移动模组和下料移动模组结构相同，所述上料模块和下料模块结构相同，所述上料模块设于上料移动模组上，所述下料模块设于下料移动模组上；

所述印刷平台包括：UVW平台模块、Y轴模组，所述UVW平台模块设于Y轴模组上，所述UVW平台模块上设置有第二真空吸附平台；

所述CCD移印定位机构包括：X轴模组、CCD组件，所述CCD组件设于X轴模组上，所述CCD组件位于Y轴模组上方；

所述移印机构包括：印头机构、刮刀机构、油盘机构、清洁机构，所述清洁机构位于印刷平台上方，所述油盘机构位于清洁机构上方，所述刮刀机构位于油盘机构上方，所述印头机构位于刮刀机构上方。

5.根据权利要求4所述的自动移印主机装置，其特征在于，所述上料模块和下料模块分别包括：取料支架、取料气缸、取料板、若干取料吸嘴，所述上料移动模组和下料移动模组分别连接一取料支架，所述取料气缸设于支架上，所述取料气缸的输出轴底部与取料板连接，各所述取料吸嘴均匀设于取料板上。

6.根据权利要求5所述的自动移印主机装置，其特征在于，所述清洁机构包括：清洁膜以及两个清洁滚筒组件，所述清洁膜一端绕于一个清洁滚筒组件上，所述清洁膜另一端绕于另一个清洁滚筒组件上，一所述清洁滚筒高于另一所述清洁滚筒。

7.根据权利要求1所述的自动移印主机装置，其特征在于，所述搬料机构包括：搬料X向模组、搬料支架、搬料气缸、搬料板、若干搬料吸嘴，所述搬料支架设于搬料X向模组上，所述搬料气缸设于搬料支架上，所述搬料气缸的输出轴底部与搬料板连接，各所述搬料吸嘴均匀设于搬料板上。