[实用新型]原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置有效

专利信息
申请号: 202020089176.X 申请日: 2020-01-16
公开(公告)号: CN211856406U 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 李颜;李润发;王传真;王玲玲;吴玉莲;杨小祥 申请(专利权)人: 南通励思仪电子科技有限公司
主分类号: G01N23/00 分类号: G01N23/00
代理公司: 佛山卓就专利代理事务所(普通合伙) 44490 代理人: 赵勇
地址: 226000 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 原位 电子显微镜 离子 辐照 损伤 光学 特征 深度 分布 分析 装置
【权利要求书】:

1.原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)的顶部固定安装有支撑台(2),所述支撑台(2)的顶部固定安装有摄像模块(3),所述底座(1)的顶部固定安装有驱动箱(4),所述驱动箱(4)的顶部固定安装有第一电机(5),所述驱动箱(4)的内部固定安装有支撑板(6),所述支撑板(6)的内部固定安装有联轴器(7),所述驱动箱(4)内腔的底壁固定安装有轴承(8),所述联轴器(7)和轴承(8)的内部固定安装有螺纹杆(9),所述螺纹杆(9)的外表面活动安装有螺纹套(10),所述螺纹套(10)的右侧固定安装有侧杆(11),所述驱动箱(4)的右侧开设有杆口(12),所述侧杆(11)的右侧固定安装有限定块(13),所述限定块(13)的内部活动安装有限定杆(14),所述底座(1)的顶部固定安装有支杆(15),所述支杆(15)的外表面活动安装有杆套(16),所述杆套(16)的左侧固定安装有第二电机(17),所述第二电机(17)与限定杆(14)相对的一侧之间固定安装有样品控制台(18),所述样品控制台(18)的顶部固定安装有样品本体(19)。

2.根据权利要求1所述的原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置,其特征在于:所述侧杆(11)活动安装在杆口(12)的内部,所述支杆(15)位于驱动箱(4)的右侧。

3.根据权利要求1所述的原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置,其特征在于:所述底座(1)的底部固定安装有防滑脚,所述摄像模块(3)面向样品本体(19)方向。

4.根据权利要求1所述的原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置,其特征在于:所述驱动箱(4)的形状为内部空心的长方体,所述螺纹杆(9)的外径与轴承(8)的内径相适配。

5.根据权利要求1所述的原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置,其特征在于:所述侧杆(11)的大小与杆口(12)的大小相适配,所述限定块(13)的内径与限定杆(14)的外径相适配。

6.根据权利要求1所述的原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置,其特征在于:所述杆套(16)的形状为内部空心且顶面和底面均缺失的圆柱体,所述杆套(16)的内径与支杆(15)的外径相适配。

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