[实用新型]掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构

说明书

本实用新型涉及一种掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构。掩膜版包括掩膜本体。掩膜本体具有相对设置的入光面和出光面，形成多个间隔设置的遮光部。至少一个遮光部具有设置于出光面的对位部。本申请提供的掩膜版可以在蒸镀工艺中，实现与待蒸镀像素基板的准确对位，并且使得掩膜版难以移动，遮光部可以更准确的实现材料的蒸镀。本申请提供的掩膜版还可以避免由于受到热辐射、重力、高斯强度不均一等情况造成的蒸镀像素偏移的问题。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构。

背景技术

在有机发光显示器件的制备过程中，有机材料通过高温蒸镀淀积在位于蒸发源上方的基板上，为使有机材料按照设计蒸镀到特定的位置上，在基板下方需使用掩膜版。在蒸镀工艺中，由于受到热辐射、重力、高斯强度不均一等情况，容易造成掩膜版相对像素偏移，造成蒸镀膜层偏移的情况。

实用新型内容

基于此，有必要针对在蒸镀工艺中，由于受到热辐射、重力、高斯强度不均一等情况，容易造成掩膜版相对像素偏移的问题，提供一种掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构。

一种掩膜版，包括：

掩膜本体，所述掩膜本体具有相对设置的入光面和出光面，所述掩膜本体还具有间隔设置的多个遮光部；

至少一个所述遮光部具有设置于所述出光面的第一对位部。

在一个实施例中，所述第一对位部为第一延伸结构；所述第一延伸结构包括：

第一接触端，与所述出光面所在的表面固定接触；以及

第一自由端，远离所述出光面，并且所述第一延伸结构沿着与所述出光面垂直的方向延伸。

在一个实施例中，所述第一延伸结构包括：第一接触面，用于增加所述第一延伸结构的固定连接能力。

在一个实施例中，所述第一对位部为第一凹槽；所述第一凹槽的开口位于所述出光面。

在一个实施例中，所述第一对位部还包括：

引导体，设置于所述第一凹槽的内槽壁。

在一个实施例中，所述第一对位部还包括：

固定件，一端固定设置于所述第一凹槽的内槽壁，所述固定件的另一端与所述出光面平行。

一种待蒸镀像素基板，包括：

像素基板本体，具有待蒸镀面；以及

至少一个支撑结构，固定设置于待蒸镀面，所述支撑结构具有与所述待蒸镀面间隔的第二对位部。

在一个实施例中，所述第二对位部为第二凹槽，所述第二凹槽的开口背向所述待蒸镀面。

在一个实施例中，所述第二对位部为第二延伸结构；

所述第二延伸结构具有沿所述第二延伸结构延伸方向的引导件，和/或，所述第二延伸结构具有固定凹槽。

一种待蒸镀机构，包括：

上述所述第一对位部为第一延伸结构的掩膜版；以及

上述所述第二对位部为第二凹槽的待蒸镀像素基板；

或者，包括：

上述所述第一对位部为第一凹槽的掩膜版；以及

上述所述第二对位部为第二延伸结构的待蒸镀像素基板；

所述第一对位部与所述第二对位部对位连接。